[发明专利]成膜用掩模及成膜装置有效
| 申请号: | 201780025519.7 | 申请日: | 2017-04-24 |
| 公开(公告)号: | CN109072423B | 公开(公告)日: | 2020-07-14 |
| 发明(设计)人: | 藤井严;江藤谦次;阿部洋一;神保洋介 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
| 主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C14/04;H05H1/46 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 袁波;刘继富 |
| 地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 成膜用掩模 装置 | ||
1.一种成膜用掩模,具有:一对第一板部和一对第二板部,
所述成膜用掩模被配置在成膜时能够加热地支承基板的载置台的周围,并覆盖所述基板的周缘部而隔离于成膜源,
所述一对第一板部具有:一对第一内周缘部,其分别具有在第一轴向上相向并朝向相互分离的方向呈凸形状的第一弯曲部;一对第一外周缘部,其分别与所述一对第一内周缘部在所述第一轴向上相向;
所述一对第二板部具有:一对第二内周缘部,其分别具有在第二轴向上相向并朝向相互分离的方向呈凸形状的第二弯曲部;一对第二外周缘部,其分别与所述一对第二内周缘部在所述第二轴向上相向,
在所述一对第一板部和所述一对第二板部中,通过成膜时来自所述载置台的输入热量,所述第一弯曲部和所述第二弯曲部以成为直线形状的方式变形。
2.根据权利要求1所述的成膜用掩模,其中,
所述一对第一板部还具有多个第一缺口部,所述多个第一缺口部分别设置于所述一对第一外周缘部,在与所述第一轴向正交的第二轴向上隔开间隔地配置;
所述一对第二板部还具有多个第二缺口部,所述多个第二缺口部分别设置于所述一对第二外周缘部,在所述第一轴向上隔开间隔地配置。
3.根据权利要求1或2所述的成膜用掩模,其中,
所述一对第一板部和所述一对第二板部分别由单独的板构件构成。
4.根据权利要求3所述成膜用掩模,其中,
所述一对第一板部的两端部与所述一对第二板部的两端部重合。
5.根据权利要求1或2所述的成膜用掩模,其中,
所述一对第一板部和所述一对第二板部由陶瓷材料构成。
6.一种成膜装置,具有:
真空腔;
载置台,其配置在所述真空腔的内部,以能够对基板进行加热的方式支承所述基板;
成膜源,其以与所述载置台相向的方式配置;
掩模,其配置在所述载置台的周围,覆盖所述基板的周缘部而隔离于所述成膜源,
所述掩模具有:一对第一板部和一对第二板部,
所述一对第一板部具有:一对第一内周缘部,其分别具有在第一轴向上相向并朝向相互分离的方向呈凸形状的第一弯曲部;一对第一外周缘部,其分别与所述一对第一内周缘部在所述第一轴向上相向;
所述一对第二板部具有:一对第二内周缘部,其分别具有在第二轴向上相向并朝向相互分离的方向呈凸形状的第二弯曲部;一对第二外周缘部,其分别与所述一对第二内周缘部在所述第二轴向上相向,
在所述一对第一板部和所述一对第二板部中,通过成膜时来自所述载置台的输入热量,所述第一弯曲部和所述第二弯曲部以成为直线形状的方式变形。
7.根据权利要求6所述的成膜装置,其中,
所述一对第一板部还具有多个第一缺口部,所述多个第一缺口部分别设置在所述一对第一外周缘部,在与所述第一轴向正交的第二轴向上隔开间隔地配置;
所述一对第二板部还具有多个第二缺口部,所述多个第二缺口部分别设置在所述一对第二外周缘部,在所述第一轴向上隔开间隔地配置。
8.根据权利要求6或7所述的成膜装置,其中,
还具有能够支承所述掩模的掩模支承构件;
所述掩模支承构件设置在所述载置台的周围,具有容许与所述第一轴向以及第二轴向平行的面内的所述掩模的热伸长的支承部。
9.根据权利要求8所述的成膜装置,其中,
所述一对第一板部分别具有第一主贯穿孔和一对第一辅助贯穿孔,所述第一主贯穿孔具有与所述第一轴向平行的长轴,所述一对第一辅助贯穿孔具有与所述第二轴向平行的长轴,夹着所述第一主贯穿孔在所述第二轴向上相互相向;
所述支承部包含多个第一定位销,所述第一定位销分别穿过所述第一主贯穿孔以及所述一对第一辅助贯穿孔,能够相对于所述一对第一板部相对移动。
10.根据权利要求8所述的成膜装置,其中,
所述一对第二板部分别具有第二主贯穿孔和一对第二辅助贯穿孔,所述第二主贯穿孔具有与所述第二轴向平行的长轴,所述一对第二辅助贯穿孔具有与所述第一轴向平行的长轴,夹着所述第二主贯穿孔在所述第一轴向上相互相向;
所述支承部包含多个第二定位销,所述第二定位销分别穿过所述第二主贯穿孔以及所述一对第二辅助贯穿孔,能够相对于所述一对第二板部相对移动。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社爱发科,未经株式会社爱发科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780025519.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





