[发明专利]偏振膜及其制造方法、光学膜、图像显示装置以及易粘接处理起偏镜在审

专利信息
申请号: 201780023947.6 申请日: 2017-05-16
公开(公告)号: CN109073812A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 菅野亮;齐藤武士;山崎达也;木村启介 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;C09D5/00;C09D183/00;C09D185/00;C09J201/00;G02F1/1335
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王利波
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 起偏镜 易粘接层 偏振膜 贴合面 芳基或杂环基团 有机金属化合物 图像显示装置 反应性基团 透明保护膜 脂肪族烃基 粘接剂层 光学膜 氢原子 氧原子 粘接剂 贴合 粘接 优选 制造
【权利要求书】:

1.一种偏振膜,其在起偏镜的至少一面隔着粘接剂层层叠有透明保护膜,

在所述起偏镜的贴合面上具有易粘接层,所述易粘接层介于所述起偏镜与所述粘接剂层之间。

2.根据权利要求1所述的偏振膜,其中,所述易粘接层具备下述通式(1)所示的化合物,

通式(1)中,X为包含反应性基团的官能团,R1及R2各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、芳基或杂环基团,

所述通式(1)所示的化合物介于所述起偏镜与所述粘接剂层之间。

3.根据权利要求2所述的偏振膜,其中,所述通式(1)所示的化合物为下述通式(1’)所示的化合物,

通式(1’)中,Y为有机基团,X、R1及R2与上述相同。

4.根据权利要求2或3所述的偏振膜,其中,所述通式(1)所示的化合物所具有的反应性基团为选自α,β-不饱和羰基、乙烯基、乙烯基醚基、环氧基、氧杂环丁烷基、氨基、醛基、巯基、卤素基团中的至少1种反应性基团。

5.根据权利要求1所述的偏振膜,其中,所述易粘接层为结构式中具有M-O键的有机金属化合物,M为硅、钛、铝、锆,O表示氧原子,

所述有机金属化合物介于所述起偏镜与所述粘接剂层之间。

6.根据权利要求5所述的偏振膜,其中,所述有机金属化合物为有机硅化合物。

7.根据权利要求5所述的偏振膜,其中,所述有机金属化合物为选自金属醇盐及金属螯合物中的至少1种化合物。

8.根据权利要求7所述的偏振膜,其中,所述金属醇盐及所述金属螯合物的金属为钛。

9.根据权利要求5所述的偏振膜,其中,所述有机金属化合物为选自钛酰化物、钛醇盐、及钛螯合物中的至少1种。

10.一种偏振膜的制造方法,所述偏振膜在起偏镜的至少一面隔着粘接剂层层叠有透明保护膜,

该方法包括:

易粘接处理工序,使下述通式(1)所示的化合物或结构式中具有M-O键的有机金属化合物附着于所述起偏镜的贴合面,

通式(1)中,X为包含反应性基团的官能团,R1及R2各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、芳基或杂环基团,

M为硅、钛、铝、锆,O表示氧原子;

涂敷工序,在所述起偏镜及所述透明保护膜的至少一个贴合面上涂敷固化性树脂组合物;

贴合工序,使所述起偏镜及所述透明保护膜贴合;以及

粘接工序,隔着所述粘接剂层使所述起偏镜及所述透明保护膜粘接,所述粘接剂层是通过从所述起偏镜面侧或所述透明保护膜面侧照射活性能量线而使所述固化性树脂组合物固化而得到的。

11.根据权利要求10所述的偏振膜的制造方法,其中,所述通式(1)所示的化合物为下述通式(1’)所示的化合物,

通式(1’)中,Y为有机基团,X、R1及R2与上述相同。

12.一种光学膜,其层叠有至少1张权利要求1~9中任一项所述的偏振膜。

13.一种图像显示装置,其使用了权利要求1~9中任一项所述的偏振膜、或权利要求12所述的光学膜。

14.一种易粘接处理起偏镜,其在至少一面具备下述通式(1)所示的化合物或结构式中具有M-O键的有机金属化合物,

通式(1)中,X为包含反应性基团的官能团,R1及R2各自独立地表示氢原子、任选具有取代基的脂肪族烃基、芳基或杂环基团,

M为硅、钛、铝、锆,O表示氧原子。

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