[发明专利]具有自环形槽突出的支承突出部的基材固持设备

说明书

本发明涉及一种用于将至少一个基材(20)固持在CVD或PVD反应器的过程室中的设备，在所述CVD或PVD反应器的平坦的顶侧上具有至少一个被至少一个定位侧边(3)限定的、用于容纳至少一个基材(20)的容纳部，其中，支承料槽(2)具有支承料槽底部(4)，在定位侧边(3)的附近，支承突出部(8)自该支承料槽底部突出，所述支承突出部构成被侧壁(10)围绕的、位于支承平面(E)中的支承区(9)，所述支承区离围绕支承突出部(8)的槽(5)的底部(6)具有比离支承料槽底部(4)更大的垂直距离。为了提高在基材的顶侧上的温度均匀性而规定，槽(5)在凹陷(11)中延伸，所述凹陷的垂直高度位于槽(5)的底部(6)与支承料槽底部(4)之间。支承突出部(8)和/或围绕支承突出部(8)的槽(5)具有离定位侧边(3)的水平距离。

技术领域

本发明涉及一种用于将至少一个基材固持在CVD或PVD反应器的过程室中的设备，在所述CVD或PVD反应器的平坦顶侧上具有至少一个被至少一个定位侧边限定的、用于容纳至少一个基材的容纳部，其中，支承料槽具有支承料槽底部，在该支承料槽底部的邻接在至少一个定位侧边上的边缘附近，支承突出部自该支承料槽底部突出，所述支承突出部构成被侧壁包围的、置于支承平面中的支承面/支承区，所述支承面/支承区离围绕支承突出部的槽的底部具有比离支承料槽底部更大的垂直距离。

现有技术

文献US 2003/0209326 A1描述了一种具有分别用于容纳基材的支承料槽的基座。每个支承料槽都具有支承座底部。所述底部一直延伸至定位侧边，所述定位侧边定义支承料槽的边缘。在定位侧边的附近在支承料槽底部中设有在不同的周向位置上的切口，支承突出部自所述切口突出，所述支承突出部利用端面构成支承面，基材的底侧支承在所述支承面上，从而使基材中空地位于支承料槽中。

由文献US 2014/0287142 A1已知一种基座，其中，平行于边缘走向的肋条自支承料槽的底部突出，基材的边缘支承在所述肋条上。所述肋条离支承料槽的径向向内方向的定位侧边保持距离。所述肋条环绕中央区域，所述中央区域具有凹陷，支承料槽的底部的直接围绕肋条的区域平直地在这样的水平上延伸，从而使得在该处在支承料槽底部与基材的底侧之间的距离最小。

由文献US 5,645,647已知一种基座，其中，用于基材的支承空间被定位侧边限定。

文献DE 10 2012 108 986 A1描述了一种CVD设备的基材固持件，所述基材固持件由具有顶侧和底侧的平坦的盘件构成。所述顶侧具有兜孔状的结构。每个该结构都构成用于各一个圆形基材的支承空间。顶侧的底座的边缘部段构成用于对多个布置在基材固持件的顶侧上的基材之一分别进行位置固定的定位侧边。基材的边缘作用在被隔开的支承突出部上，所述支承突出部邻接在定位侧边上。支承突出部的突伸进支承空间的支承面中的部段被沟槽围绕。底座具有三角形的底面形状，所述底座相互间隔并且能够使基材以六角形的布置来定位。

文献DE 20 2015 118 215描述了一种基座，其中，沟槽沿底座的定位侧边延伸，支承突出部从所述沟槽突出。在此还描述了一种支承突出部，所述支承突出部被环形槽环绕，其中，环形槽具有在横截面中为圆形的弓形件，所述弓形件在构成侧壁的情况下无折点地过渡至用于基材支承的支承面。

该类型的基座尤其应用在CVD反应器中，基座在CVD反应器中构成过程室的底部。基座自下、例如通过热辐射被加热。通过热传导使辐射热量达到基座的顶侧，基材在基座上置入在此布置的支承料槽中。基座的顶侧上方具有过程室，所述过程室的顶板由进气机构构成。进气机构的面向基座的排气面具有与基座的表面温度不同的温度。排气面与基座顶侧之间的温度差可以达数百摄氏度，从而基于基座与进气机构之间所形成的温度梯度导致从基座至进气机构的极高的热通量。鉴于该热通量在基座内部构成垂直的温度梯度，然而在支承料槽的区域中也构成垂直的温度梯度。在基材中空地放置在支承料槽上所处的区域中以及在基材支承在支承突出部的支承面上所处的区域中，热通量是不同的。此外，还存在从定位侧边至基材的垂直的热入流。

发明内容