[发明专利]用于以可变空间分辨率对晶片等对象进行2D/3D检测的共焦色差装置和方法

权利要求书

1.一种用于检测对象(10)的表面的共焦色差装置，所述装置包括：

-色差透镜(13)，其具有扩大的轴向色差；

-光源(19)，其用于通过色差透镜(13)，使用聚焦在不同轴向距离处的多个光学波长来照射对象(10)；

-多个光学测量通道(24)，其具有收集孔(14)，布置为在多个测量点(15)处通过色差透镜(13)收集由对象(10)反射的光；

其特征在于，还包括放大透镜(31)，放大透镜(31)布置为引入收集孔(14)和测量点(15)的空间重新分配之间的可变的比例因子，所述放大透镜(31)具有无限的有效焦距。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，多个光学测量通道(24)包括具有强度检测器(20)的光学测量通道(24)，强度检测器(20)用于测量所收集的光的总强度。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其中，多个光学测量通道(24)包括具有光谱检测器(21)的至少一个光学测量通道(24)，光谱检测器(21)用于测量所收集的光的光谱信息并推导出轴向距离信息。

4.根据权利要求1所述的装置，包括位于收集孔(14)和色差透镜(13)之间的放大透镜(31)。

5.根据权利要求1所述的装置，还包括位于收集孔(14)和放大透镜(31)之间的准直透镜(29)。

6.根据权利要求1所述的装置，其中，所述放大透镜(31)允许引入可变放大率。

7.根据权利要求1所述的装置，还包括允许改换放大透镜(31)的机械支架(34)。

8.根据权利要求7所述的装置，其中机械支架(34)包括转台或线性平台。

9.根据权利要求1所述的装置，包括沿排(41)布置的收集孔(14)。

10.根据权利要求1所述的装置，其中，所述对象(10)是晶片。

11.一种用于检测对象(10)的表面的方法，所述方法包括：

-提供具有扩大的轴向色差的色差透镜(13)；

-通过色差透镜(13)，利用聚焦在不同轴向距离处的多个光学波长来照射对象(10)；

-使用具有收集孔(14)的多个光学测量通道(24)，在多个测量点(15)处通过色差透镜(13)收集对象(10)反射的光；

其特征在于，所述方法还包括通过放大透镜(31)光学地改变收集孔(14)的空间重新分配和测量点(15)的空间重新分配之间的比例因子，所述放大透镜(31)具有无限的有效焦距。

12.根据权利要求11所述的方法，还包括以下步骤中的至少一个：

-测量由光学测量通道(24)中的至少一个测量通道收集的光的总强度，以获得强度信息；

-测量由光学测量通道(24)中的至少一个测量通道收集的光的光谱信息，以获得轴向距离信息。

13.根据权利要求11或12所述的方法，还包括以下步骤中的至少一个：

-根据对象(10)上的结构(11)的空间重新分配，来调整测量点(15)的空间重新分配；

-调整测量点(15)的间距，以基本匹配对象(10)上的结构(11)的间距。

14.根据权利要求11或12所述的方法，其被实施用于检测晶片(10)上的凸起结构(11)。

15.根据权利要求11所述的方法，其中，所述对象(10)是包括三维结构(11)的晶片。