[发明专利]辐射装置以及使用辐射装置的处理装置

权利要求书

1.一种辐射装置，其具有多层层叠的层叠构造、且辐射特定波长区域的辐射能量，其中，

所述多层具备：

发热源；

超材料构造层，其配置于所述发热源的表面侧，将从所述发热源输入的热能作为所述特定波长区域的辐射能量进行辐射；以及

背面金属层，其配置于所述发热源的背面侧，

所述背面金属层的平均辐射率小于所述超材料构造层的平均辐射率，

所述多层还具备第一支承基板以及第二支承基板，

所述超材料构造层配置于第一支承基板的表面上，

所述背面金属层配置于第二支承基板的背面上，

所述发热源配置于所述第一支承基板与所述第二支承基板之间，

所述第二支承基板的导热率小于所述第一支承基板的导热率，

所述特定波长为2～10μm。

2.根据权利要求1所述的辐射装置，其中，

所述第一支承基板为AlN基板，

所述第二支承基板为Al₂O₃基板，

所述背面金属层为Au层。

3.根据权利要求1或2所述的辐射装置，其中，

所述第一支承基板的厚度小于所述第二支承基板的厚度。

4.一种处理装置，其对被处理物进行处理，其中，

所述处理装置具备：

配置为与所述被处理物对置的权利要求1～3中任一项所述的辐射装置；

收容部，其对所述被处理物和所述辐射装置进行收容；以及

保持部，其一端安装于所述收容部的内壁面，其另一端安装于所述辐射装置的一部分，并在所述收容部内对所述辐射装置进行保持，

所述辐射装置的所述超材料构造层与所述被处理物对置，

所述辐射装置的所述背面金属层与所述收容部的所述内壁面对置，

在所述背面金属层与所述收容部的所述内壁面之间设置有间隙。

5.根据权利要求4所述的处理装置，其中，

还具备分隔壁，该分隔壁将所述收容部内的空间分离为对所述被处理物进行收容的第一空间、以及对所述辐射装置进行收容的第二空间，

所述分隔壁能使得所述特定波长的辐射能量透过。

6.根据权利要求4或5所述的处理装置，其中，

在所述收容部内进行所述被处理物的干燥处理。