[发明专利]磁盘用铝合金坯体和磁盘用铝合金基片有效
申请号: | 201780019748.8 | 申请日: | 2017-03-10 |
公开(公告)号: | CN108884520B | 公开(公告)日: | 2020-07-17 |
发明(设计)人: | 小室秀之;梅田秀俊 | 申请(专利权)人: | 株式会社神户制钢所 |
主分类号: | C22C21/00 | 分类号: | C22C21/00;C22C21/06;C22C21/10;C22C21/12;C22F1/04;C22F1/047;C22F1/053;C22F1/057;G11B5/73;C22F1/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴克鹏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁盘 铝合金 | ||
本发明的一个实施方式的磁盘用铝合金坯体,有Mg:3.00质量%以下、Si:1.00质量%以下,含有Fe:6.0质量%以下、Mn:10.0质量%以下、Ni:10.0质量%以下之中的至少一种,并且其合计量为10.0质量%以下,余量由Al和不可避免的杂质构成,表面上金属间化合物所占的面积率为5~40%,且单质Si和Mg-Si系金属间化合物的面积率的合计为1%以下。
技术领域
本发明涉及磁盘用铝合金坯体和磁盘用铝合金基片。
背景技术
作为计算机、硬盘驱动器(HDD)等的记录介质,使用有铝(Al)合金制的磁盘。这样的磁盘通过如下方式制造,即,对于板材的表面进行镜面加工,并按顺序进行脱脂处理、酸蚀刻处理、剥黑膜处理、第一次锌酸盐处理、硝酸剥离处理、第二次锌酸盐处理、无电解镀Ni-P处理后,再形成磁性膜、保护膜等。
出于记录容量的大容量化的愿望,有增加搭载于内部的磁盘张数这样的要求(需要)。为了应对该需要,磁盘的薄壁化得到研究,但若使磁盘薄壁化,则存在如下问题,即,以HDD使之旋转时发生的振动容易变大。另一方面,玻璃制基板本为高刚性,但存在用于使之平坦的生产成本(磨削)欠佳的问题。这了解决这样的问题,需要使适用生产成本优异的铝轧制板的磁盘坯体高刚性化。
关于以高刚性化为目的磁盘的发明,例如,由专利文献1公开。该专利文献1所述的发明是使Al合金基体中,按体积比分散5~50%的陶瓷粒子或陶瓷纤维之中的至少一者。
还有,在该专利文献1中记述有用于该磁盘的Al合金板以如下方式制造。即记述的要旨为,作为基体粒子准备由雾化法得到的纯Al粒子,和作为强化纤维准备Al2O3粒子,将其混合在一起(纤维体积比15%)。将该混合物装入成形模具中,在熔融温度附近经HIP(HotIsostatic Pressing:热等静压)处理后,进行热轧而制造规定板厚的板。还有,在此方法中,因为不得不每一张分别处理,因此存在生产成本欠佳这样与玻璃制基板同样的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本国特开昭63-183146号公报
如前述,专利文献1所述的发明,因为是将基体粒子和强化纤维进行混合,在熔融温度附近进行HIP处理而取得,所以基体粒子和强化纤维的密接性有可能不充分。因此,专利文献1所述的Al合金板中,不可能无法将形成于板表面的无电解镀Ni-P膜的平滑性,提高到能够满足近年的记录密度的水平。
另外,如前述,需要使适用生产成本优异的铝轧制板的磁盘坯体高刚性化。
发明内容
本发明鉴于所述状况而做,其课题在于,提供一种刚性(例如,杨氏模量)和形成于表面的无电解镀Ni-P膜的平滑性优异的磁盘用铝合金坯体和磁盘用铝合金基片。
本发明者,为了解决所述课题锐意研究,其结果发现,通过提高金属间化合物的面积率,能够提高基板整体的刚性。另外,本发明者还发现,在金属间化合物中,有像单质Si和Mg-Si系金属间化合物这样,表面上不会有无电解镀Ni-P在表面析出的情形;和像其以外的金属间化合物这样,表面上有无电解镀Ni-P在表面析出的情形。于是,本发明者发现,通过选择性地提高无电解镀Ni-P在表面析出的金属间化合物的面积率,在提高刚性的同时,还能够抑制镀覆缺陷的发生,从而完成了本发明。
解决所述课题的本发明的一个实施方式的磁盘用铝合金坯体中,Mg:3.00质量%以下,Si:1.00质量%以下,含有Fe:6.0质量%以下、Mn:10.0质量%以下、Ni:10.0质量%以下之中的至少一种,并且,其合计量为10.0质量%以下,余量由Al和不可避免的杂质构成,表面上金属间化合物所占的面积率为5~40%,且单质Si和Mg-Si系金属间化合物的面积率的合计为1%以下。
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