[发明专利]感光性硅氧烷组合物有效
申请号: | 201780019167.4 | 申请日: | 2017-03-23 |
公开(公告)号: | CN108884321B | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
发明(设计)人: | 高桥惠;横山大志;吉田尚史;谷口克人;九泽昌祥 | 申请(专利权)人: | AZ电子材料(卢森堡)有限公司 |
主分类号: | C08L83/04 | 分类号: | C08L83/04;C09D183/04 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人: | 刘卓然 |
地址: | 卢森堡国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 硅氧烷 组合 | ||
1.一种组合物,其包含:
碱可溶性树脂,所述碱可溶性树脂是包含有包含羧基的聚合单元与包含烷氧基甲硅烷基的聚合单元的聚合物,
聚硅氧烷,
重氮基萘醌衍生物,
暴露于光时产生酸或者碱的化合物,以及
溶剂,
其中,所述暴露于光时产生酸或者碱的化合物是光酸产生剂或者光碱产生剂,其在波长365nm处的吸光度/波长436nm处的吸光度之比、或者波长365nm处的吸光度/波长405nm处的吸光度之比为5/1以上。
2.根据权利要求1所述的组合物,其中,
所述包含羧基的聚合单元是由不饱和羧酸、不饱和羧酸酐、或者它们的混合物衍生的聚合单元。
3.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,
所述包含烷氧基甲硅烷基的聚合单元是由以下的式(I)所表示的单体衍生的聚合单元,
X-(CH2)a-Si(OR)b(CH3)3-b (I)
式中,
X是乙烯基、苯乙烯基、或者(甲基)丙烯酰氧基,
R是甲基或者乙基,
a为0~3的整数,并且
b为1~3的整数。
4.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,
所述聚硅氧烷是由以下的通式(II)所表示的单体衍生的聚硅氧烷,
R1[Si(OR2)3]p (II)
式中,
p为1~3的整数,
R1是氢,或者碳原子数为20以下的、也可包含氧或者氮的、直链状、分支状或者环状的、价数为p的烃基,条件是烃基的任意的氢都可被氟取代,
R2各自独立地为氢、或者碳原子数1~10的烷基。
5.根据权利要求3所述的组合物,其中,
所述聚硅氧烷是由以下的通式(II)所表示的单体衍生的聚硅氧烷,
R1[Si(OR2)3]p (II)
式中,
p为1~3的整数,
R1是氢,或者碳原子数为20以下的、也可包含氧或者氮的、直链状、分支状或者环状的、价数为p的烃基,条件是烃基的任意的氢都可被氟取代,
R2各自独立地为氢、或者碳原子数1~10的烷基。
6.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述碱可溶性树脂的重均分子量为3000~50000。
7.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述聚硅氧烷的重均分子量为800~15000。
8.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述碱可溶性树脂与所述聚硅氧烷的混合比按质量比计为5:95~95:5。
9.一种固化膜的形成方法,其包含如下的工序:
将权利要求1~8中任一项所述的组合物涂布于基板上而形成涂膜,
对所述涂膜进行曝光,
将曝光的膜用碱显影液进行显影,形成图案,并且
将所获得的图案进行加热。
10.根据权利要求9所述的固化膜的形成方法,其还包含如下的工序:
在将所获得的图案进行加热之前,进行整个膜表面曝光的工序。
11.一种固化膜,其利用包含如下工序的方法而形成:
将权利要求1~8中任一项所述的组合物涂布于基板上而形成涂膜,
对所述涂膜进行曝光,
将曝光的膜用碱显影液进行显影,形成图案,
将所获得的图案进行加热。
12.一种器件,其具备权利要求11所述的固化膜。
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