[发明专利]用于基于电子束的表征工具上的漂移补偿的系统及方法有效
| 申请号: | 201780015907.7 | 申请日: | 2017-03-20 |
| 公开(公告)号: | CN108780729B | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
| 发明(设计)人: | F·拉斯克;C·西尔斯 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/153 | 分类号: | H01J37/153;H01J37/28 |
| 代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 基于 电子束 表征 工具 漂移 补偿 系统 方法 | ||
1.一种扫描电子显微镜系统,其包括:
电子束源,其经配置以产生一或多个电子束;
样本载台,其经配置以固定衬底,其中所述样本载台包含第一对准特征;
电子光学柱,其中所述电子光学柱包含一组电子光学元件,其中所述组电子光学元件包含电子光学透镜及安装到所述电子光学透镜的底部部分的对准板,其中所述电子光学透镜包含第二对准特征,其中所述对准板包含第三对准特征;
检测器组合件;以及
控制器,其包括经配置以执行存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器,其中所述一或多个处理器以通信方式耦合到所述电子光学柱的一或多个部分或所述样本载台中的至少一个,其中所述一或多个处理器经配置以调整所述电子光学柱的一或多个部分或所述样本载台中的至少一个,以便将所述一或多个电子束对准到所述第一对准特征、所述第二对准特征或所述第三对准特征中的至少一个。
2.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜系统,其中所述检测器组合件包括次级电子检测器或反向散射电子检测器中的至少一个。
3.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜系统,其中所述电子光学元件包括:
聚光透镜、一或多个扫描元件、光圈或物镜中的至少一个。
4.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜系统,其中所述电子光学透镜包括:
物镜或聚光镜中的至少一个。
5.根据权利要求4所述的扫描电子显微镜系统,其中所述物镜包括最终物镜。
6.根据权利要求4所述的扫描电子显微镜系统,其中所述第二对准特征安置于所述物镜的光圈周围。
7.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜系统,其中所述第一对准特征是位于所述样本载台上的一组对准标记。
8.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜系统,其中所述对准板包括:
栅格、光栅、圆盘或环中的至少一个。
9.根据权利要求8所述的扫描电子显微镜系统,其中所述第三对准特征是位于所述对准板上的一组对准标记。
10.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜系统,其中所述样本载台包括:
线性样本载台或旋转样本载台中的至少一个。
11.根据权利要求1所述的扫描电子显微镜系统,其进一步包括:
干涉仪系统。
12.根据权利要求11所述的扫描电子显微镜系统,其中所述干涉仪系统经配置以测量样本载台与电子光学柱沿x方向、y方向或z方向中的至少一个的相对位置改变。
13.根据权利要求11所述的扫描电子显微镜系统,其中所述电子光学柱与所述干涉仪系统同步。
14.一种扫描电子显微镜系统,其包括:
电子束源,其经配置以产生一或多个电子束;
样本载台,其经配置以固定衬底,其中所述样本载台经配置以调整位置以将所述电子束聚焦于所述衬底上;
参考目标;
电子光学柱,其中所述电子光学柱包含一组电子光学元件,其中所述组电子光学元件包含电子光学透镜;其中所述组电子光学元件能够经配置以同时聚焦于所述参考目标及样本上;
检测器组合件;以及
控制器,其包括经配置以执行存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器,其中所述一或多个处理器以通信方式耦合到所述电子光学柱的一或多个部分或所述样本载台中的至少一个,其中所述一或多个处理器经配置以调整所述电子光学柱的一或多个部分或所述样本载台中的至少一个,以便将所述一或多个电子束对准到所述参考目标、所述衬底中的至少一个或同时聚焦于所述参考目标及所述衬底上。
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