[发明专利]硒光电倍增管及其制造方法有效
| 申请号: | 201780015816.3 | 申请日: | 2017-01-09 |
| 公开(公告)号: | CN108886071B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
| 发明(设计)人: | 阿米尔侯赛因·戈登;赵伟 | 申请(专利权)人: | 纽约州立大学研究基金会 |
| 主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0376;H01L31/054 |
| 代理公司: | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人: | 李德魁 |
| 地址: | 美国纽约州*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光电倍增管 及其 制造 方法 | ||
1.一种具有电场成形多井雪崩探测器的光电倍增管,包括:
下绝缘体;
a-Se光电导层;
上绝缘体,和
多个横向Frisch栅;
其中,所述a-Se光电导层在所述下绝缘体和所述上绝缘体之间,
其中,沿光电倍增管的长度,设置光相互作用区域、雪崩区域和收集区域,并且
其中光相互作用区域和收集区域位于雪崩区域的相对侧;
所述多个横向Frisch栅以预定间隔沿雪崩区域的水平长度设置。
2.根据权利要求1所述的光电倍增管,其特征在于,所述雪崩区域以水平取向形成,并且其中所述a-Se光电导层和所述上绝缘体以垂直取向形成在下绝缘体上。
3.根据权利要求1所述的光电倍增管,其特征在于,所述雪崩区域通过光刻形成。
4.根据权利要求1所述的光电倍增管,其特征在于,所述光相互作用区域包括上部光学窗口和下部光学窗口,
其中上部光学窗口设置为用于从探测器上方输入第一光,并且
其中下部光学窗口设置为用于从探测器下方输入第二光。
5.根据权利要求1所述的光电倍增管,还包括:
位于光相互作用区域末端的高压源;和
位于收集区域末端的收集器,
其中所述高压源和所述收集器位于所述探测器的相对水平端上,以在所述高压源和所述收集器之间形成电场。
6.根据权利要求1所述的光电倍增管,其特征在于,所述多个横向Frisch栅中的每个横向Frisch栅设置在距所述多个横向Frisch栅中的相邻另一横向Frisch栅的预定距离处。
7.根据权利要求1所述的光电倍增管,其特征在于,所述多个横向Frisch栅的相邻两个横向Frisch栅之间具有一个放大级。
8.根据权利要求1所述的光电倍增管,其特征在于,偏置所述多个横向Frisch栅以产生高场区域,以提供多级雪崩增益,所述多级雪崩增益消除了a-Se内的场热点的形成,并且消除了来自高场金属-半导体界面的电荷注入。
9.根据权利要求8所述的光电倍增管,其特征在于,所述多级雪崩增益被限制在所述多个横向Frisch栅的栅平面之间,并且消除了来自金属电极的电荷注入。
10.一种具有电场成形多井雪崩探测器的光电倍增管,包括:
绝缘体;
与绝缘体相邻的a-Se光电导层;和
多个横向Frisch栅;
其中沿光电倍增管的长度,设置光相互作用区域、雪崩区域和收集区域,
其中光相互作用区域和收集区域位于雪崩区域的相对侧;并且
其中多个横向Frisch栅以预定间隔沿雪崩区域的水平长度设置。
11.根据权利要求10所述的光电倍增管,其特征在于,所述雪崩区域以水平取向形成,并且所述a-Se光电导层以垂直取向形成在绝缘体上。
12.根据权利要求10所述的光电倍增管,其特征在于,所述雪崩区域通过光刻形成。
13.根据权利要求10所述的光电倍增管,其特征在于,所述光相互作用区域包括设置为用于输入光的光学窗口。
14.根据权利要求10所述的光电倍增管,还包括:
位于光相互作用区域的多个高压分压器;
位于收集区域的末端的收集器。
15.根据权利要求10所述的光电倍增管,其特征在于,所述多个横向Frisch栅中的每个横向Frisch栅设置在距所述多个横向Frisch栅中的相邻另一横向Frisch栅的预定距离处。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于纽约州立大学研究基金会,未经纽约州立大学研究基金会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780015816.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体光检测元件
- 下一篇:具有带有疏水性纳米结构的波长转换层的光转换设备
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





