[发明专利]具有高介电常数的光可成像薄膜在审

专利信息
申请号: 201780015657.7 申请日: 2017-03-15
公开(公告)号: CN108780277A 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: C·沃尔福-古普塔;饶袁桥;W·H·H·伍德沃德 申请(专利权)人: 陶氏环球技术有限责任公司
主分类号: G03F7/038 分类号: G03F7/038;G03F7/023;G03F7/004;G03F7/00;G03F7/075
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 徐舒
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 氧化锆纳米粒子 正性光致抗蚀剂 甲酚酚醛树脂 高介电常数 光可成像膜 光可成像 官能化 抑制剂 重氮萘 制备 薄膜
【权利要求书】:

1.一种用于制备光可成像膜的制剂;所述制剂包含:(a)包含甲酚酚醛树脂和重氮萘醌抑制剂的正性光致抗蚀剂;和(b)官能化的氧化锆纳米粒子。

2.根据权利要求1所述的制剂,其中所述官能化的氧化锆纳米粒子的平均直径是0.3nm到50nm。

3.根据权利要求2所述的制剂,其中所述官能化的氧化锆纳米粒子包含具有羧酸、醇、三氯硅烷、三烷氧基硅烷或混合的氯/烷氧基硅烷官能团的配体。

4.根据权利要求3所述的制剂,其中所述配体具有一到二十个非氢原子。

5.根据权利要求4所述的制剂,其中所述甲酚酚醛树脂的环氧官能度是2到10。

6.根据权利要求5所述的制剂,其中所述制剂中的官能化的纳米粒子的量以所述整个制剂的固体重量计算是50到95wt%。

7.根据权利要求6所述的制剂,其中所述甲酚酚醛树脂包含甲酚、甲醛和表氯醇的聚合单元。

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