[发明专利]分析装置在审
申请号: | 201780014126.6 | 申请日: | 2017-12-22 |
公开(公告)号: | CN108738349A | 公开(公告)日: | 2018-11-02 |
发明(设计)人: | 辻丸光一郎 | 申请(专利权)人: | 达纳福股份有限公司 |
主分类号: | G01N35/00 | 分类号: | G01N35/00;C12M1/00;C12Q1/68 |
代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 龚敏;王刚 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 安置 分析芯片 收容室 分析装置 加热 收容 加热部 分析 分析室 加热板 配置 | ||
1.一种分析装置,其特征在于,具备:
安置部,其安置分析芯片;
收容室,其收容所述安置部;
加热部,其对安置到所述安置部的分析芯片进行加热;以及
分析部,其对安置到所述安置部的分析芯片进行分析,
所述收容室在收容有所述安置部的状态下,成为安置到所述安置部的分析芯片的分析室,
所述分析部配置于如下位置,即,在所述安置部收容到所述收容室的状态下,对安置到所述安置部的分析芯片进行分析的位置,
所述加热部为加热板,配置于如下位置,即,在所述安置部收容到所述收容室的状态下,对安置到所述安置部的分析芯片进行加热的位置。
2.如权利要求1所述的分析装置,其中,
所述分析装置在所述收容室的内部还具备驱动部,所述驱动部使安置到所述安置部的分析芯片进行旋转。
3.如权利要求1或2所述的分析装置,其中,
所述加热部配置在所述收容室的内部。
4.如权利要求1至3中任一项所述的分析装置,其中,
所述加热部为陶瓷制加热板。
5.如权利要求1至4中任一项所述的分析装置,其中,
安置于所述安置部的分析芯片在平面方向上的从其中心呈放射状的位置具有多个被分析区域。
6.如权利要求1至5中任一项所述的分析装置,其中,
所述分析装置还具有照射光的光照射部,
所述分析部包括检测光的光检测部。
7.如权利要求6所述的分析装置,其中,
所述安置部具有:圆形的基座部;以及从基座部的外周向上方突出的壁部,
所述光检测部配置于所述安置部的壁部的内壁,
在所述收容室收容有所述安置部的状态下,所述光照射部配置于所述安置部的基座部的中心位置。
8.如权利要求7所述的分析装置,其中,
所述分析部包括多个所述光检测部,
在所述安置部的壁部的内壁,沿着周向配置有多个所述光检测部。
9.如权利要求1至8中任一项所述的分析装置,其中,
所述收容室具有开口部,通过所述开口部,能取出装入所述安置部。
10.如权利要求1至9中任一项所述的分析装置,其中,
所述分析装置还具有:温度测量部,其对所述收容室的温度进行测量;以及加热控制部,其对所述加热部的加热进行控制,
所述加热控制部基于由所述温度测量部测量出的温度,对所述加热部的加热进行控制。
11.如权利要求1至10中任一项所述的分析装置,其中,
所述分析装置用于基因分析。
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