[发明专利]用于传质柱中的错流盘的弦壁支撑系统以及涉及其的方法有效

专利信息
申请号: 201780012098.4 申请日: 2017-02-17
公开(公告)号: CN108697943B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 戴伦·黑德利;大卫·艾依 申请(专利权)人: 科氏-格利奇有限合伙公司
主分类号: B01D3/32 分类号: B01D3/32;B01D3/22
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 孙纪泉
地址: 美国堪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 传质 中的 错流盘 支撑 系统 以及 涉及 方法
【权利要求书】:

1.一种在传质柱中使用的盘组件,所述盘组件包括:

多个错流盘,所述多个错流盘彼此竖直间隔开,每个错流盘包括平坦盘平台,所述盘平台具有分布在所述盘平台上的流体流动孔,并且所述错流盘中的至少交替者具有从所述盘平台下降以用于从所述盘平台移除液体的至少一个弦下降腔,

其中所述错流盘中的一个上的所述弦下降腔中的至少一个被定位成与所述错流盘中的另一个上的弦下降腔竖直对齐,

其中所述至少一个弦下降腔中的每个被定位在相关联盘平台中的开口处,并且包括一对间隔开的下降腔壁,所述下降腔壁在所述开口处从相关联的盘平台向下延伸以形成下降腔通道,以用于将进入所述开口的流体递送到下面的错流盘中的一个的所述盘平台;

支撑系统,所述支撑系统支撑所述错流盘并且包括弦壁,所述弦壁与所述错流盘联接,并且穿过所述错流盘而且在所述对齐的弦下降腔的所述下降腔通道内竖直延伸,所述弦壁具有固定到外壳上的竖直延伸的相对端,

其中所述弦壁由接合在一起的各个面板形成,并且交替错流盘上的所述弦下降腔竖直对齐;

定位在所述弦下降腔的所述通道内的所述弦壁中的第一组流体通道,以允许在所述下降腔通道内的所述流体从所述弦壁的一侧穿过所述第一组流体通道到所述弦壁的相对侧;

其中,所述下降腔壁中的每个的下末端被定位成在流体被递送到其上的所述盘平台上方预选的距离以创建间隙区域,用于将所述流体从所述下降腔排放到所述盘平台的入口区域上;

其中,所述第一组流体通道中的所述流体通道的下端在所述下降腔壁的所述下末端下方延伸,以允许排放到所述盘平台上的所述流体穿过所述弦壁;并且

其中,在所述弦下降腔中的每个中,所述第一组流体通道中的所述流体通道的上端终止在所述盘平台下方,所述下降腔从所述盘平台下降,并且所述弦壁在所述盘平台上方的区域中是无孔的,以防止所述盘平台上的流体跳过所述弦下降腔所在的开口。

2.根据权利要求1所述的盘组件,包括定位在所述盘平台的所述入口区域下方的所述弦壁中的第二组流体通道,以允许流体从所述弦壁的一侧穿过所述第二组流体通道到所述弦壁的相对侧。

3.根据权利要求2所述的盘组件,其中所述支撑系统包括细长稳定器,所述细长稳定器延伸穿过所述第二组流体通道中的所述流体通道中的至少一些,并且接合到所述弦壁的相对侧上的所述盘平台上。

4.根据权利要求3所述的盘组件,其中所述支撑系统包括支撑件,所述支撑件固定到所述弦壁的相对侧上并且在所述盘平台的所述入口区域下方沿着所述弦壁水平地延伸,所述支撑件提供上凸缘和下凸缘,所述盘平台被固定到所述上凸缘上,并且所述稳定器被固定到所述下凸缘上。

5.根据权利要求1所述的盘组件,其中所述支撑系统包括定位在所述弦壁的相对侧上的所述下降腔通道内的下降腔支撑托架,每个下降腔支撑托架从所述弦壁延伸到所述下降腔壁中的一个,以将负载从所述下降腔壁和相关联的盘平台转移到所述弦壁。

6.根据权利要求5所述的盘组件,其中所述弦壁的一侧上的所述下降腔支撑托架与所述弦壁的另一侧上的所述下降腔支撑托架对齐。

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