[发明专利]具有反射能量调向的电烤箱

权利要求书

1.一种电烤箱，具有用于控制在所述电烤箱中的热量分布的一组反射元件，所述电烤箱包括：

腔室；

微波能量源，其联接到所述腔室中的注入端口；

一组介电心轴，其延伸穿过所述腔室中的一组穿孔；

一组电机，其连接到该组介电心轴；以及

控制器，其控制该组电机；

其中，该组反射元件通过该组介电心轴保持在所述腔室的表面的上方；

其中，该组电机经由该组介电心轴旋转该组反射元件；

其中，所述控制器存储指令，所述指令使用该组电机独立地引起该组反射元件中的每个反射元件旋转；且

其中，该组电机、该组反射元件和该组介电心轴各自是具有至少三个单元的组。

2.如权利要求1所述的电烤箱，还包括：

形成所述微波能量源的磁控管，其从电源电压源接收交流电力，并将所述交流电力转换为微波能量；

波导，其将所述磁控管联接到所述注入端口；

其中，除了来自所述注入端口的微波能量以外，所述腔室不接收任何微波能量；且

其中，该组反射元件是非辐射性元件。

3.如权利要求1所述的电烤箱，其中：

所述微波能量源向所述腔室施加电磁波；

所述电磁波具有主波长；且

该组反射元件中的每个反射元件与该组反射元件中的每个其他反射元件间隔开从能量源提供给腔室的最短波长的能量的波长的至少一半。

4.如权利要求1所述的电烤箱，其中：

所述控制器为该组反射元件中的每个反射元件独立地存储对应的当前位置值；并且

所述控制器存储指令，所述指令响应于该组反射元件中的每个反射元件的旋转来改变所述对应的当前位置值。

5.如权利要求1所述的电烤箱，还包括：

形成所述微波能量源的磁控管，其从电源电压源接收交流电力，并将所述交流电力转换为微波能量；

从所述磁控管到所述注入端口的波导；

其中，所述微波能量源向所述腔室施加电磁波；

其中，所述电磁波具有主极化；

其中，所述指令在相对于所述主极化具有第一取向的第一位置和相对于所述主极化具有第二取向的第二位置之间调整该组反射元件中的反射元件；

其中，所述主极化垂直于所述第一取向；且

其中，所述主极化平行于所述第二取向。

6.如权利要求1所述的电烤箱，其中，所述控制器存储指令，所述指令使用该组电机在一组固定位置之间独立地旋转该组反射元件；且

其中，所述控制器为该组反射元件中的每个反射元件存储来自该组固定位置的对应的当前位置值。

7.如权利要求1所述的电烤箱，还包括：

所述腔室的假底板；

其中，所述微波能量源向所述腔室施加电磁波；

其中，所述电磁波具有主波长；

其中，该组反射元件位于所述假底板的后面；且

其中，在所述假底板和该组反射元件之间垂直于所述假底板测量的垂直距离小于施加到腔室的最短电磁波的波长的0.159倍。

8.如权利要求1所述的电烤箱，其中：

所述注入端口定位为从该组反射元件跨越所述腔室的中心。

9.如权利要求1所述的电烤箱，还包括：

所述腔室的假顶板；

其中，所述注入端口位于所述腔室的表面上；且

其中，该组反射元件位于所述假顶板的后面。

10.如权利要求9所述的电烤箱，其中：

所述微波能量源向所述腔室施加电磁波；

所述电磁波具有主波长；且

在所述腔室的上表面和该组反射元件之间垂直于所述假顶板测得的垂直距离小于施加到腔室的最短电磁波的波长的0.6倍。