[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其中，具备：

基板保持部，保持基板；

基板旋转机构，使所述基板保持部和所述基板一起旋转；

纯水供给部，向所述基板的朝向上方的主表面供给纯水；

混合液供给部，向所述主表面供给通过将表面张力小于纯水的常温的有机溶剂和加热的纯水混合而生成且温度高于常温的混合液；

有机溶剂供给部，向所述主表面供给所述有机溶剂；以及

控制部，在使所述纯水供给部、所述混合液供给部和所述有机溶剂供给部向通过所述基板旋转机构进行旋转的所述基板的所述主表面依次供给所述纯水、所述混合液和所述有机溶剂之后，通过所述基板的旋转去除所述主表面上的所述有机溶剂。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

所述混合液中的所述有机溶剂的浓度为50vol％以下。

3.一种基板处理方法，其中，包括：

a)工序，向旋转的基板的朝向上方的主表面供给纯水；

b)工序，向旋转的所述基板的所述主表面供给通过将表面张力小于纯水的常温的有机溶剂和加热的纯水混合而生成且温度高于常温的混合液；

c)工序，向旋转的所述基板的所述主表面供给所述有机溶剂；以及

d)工序，借助所述基板的旋转去除所述主表面上的所述有机溶剂。

4.根据权利要求3所述的基板处理方法，其中，

所述混合液中的所述有机溶剂的浓度为50vol％以下。