[发明专利]半导体激光光源装置在审

专利信息
申请号: 201780009106.X 申请日: 2017-02-02
公开(公告)号: CN108604766A 公开(公告)日: 2018-09-28
发明(设计)人: 吉野雅也 申请(专利权)人: 优志旺电机株式会社
主分类号: H01S5/022 分类号: H01S5/022;G01P5/20
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 任玉敏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 发射极 透镜区域 半导体激光光源 透镜 激光转换 射出 平行 方向排列 精度降低 示踪粒子 装置提供 光源部 基准时
【说明书】:

提供一种能够在PIV中抑制因示踪粒子的影导致测量结果的精度降低的技术。半导体激光光源装置具有:光源部,包含沿第一方向排列的多个发射极;以及透镜,将从多个发射极射出的激光转换为在第二方向上平行。透镜包含按照多个发射极的每一个,将从各个发射极射出的激光转换为在第二方向上平行的多个透镜区域。在多个发射极中的至少两个发射极和两个发射极所对应的两个透镜区域中,在以各个发射极在第二方向上的位置为基准时,发射极所对应的透镜区域在第二方向上的位置不同。

技术领域

本发明涉及一种半导体激光光源装置。

背景技术

以往,作为测量流体的流动及速度的方法,已知有被称作PIV(Particle ImageVelocimetry,粒子图像测速)的技术。PIV指的是如下技术:在流体中混入被称作示踪粒子的微小粒子,拍摄对该示踪粒子照射片状的激光而得的散射光,从而可视化地测量流体的流动。

例如专利文献1中记载有,在PIV的光源中使用Nd:YAG激光,将激光转换为片状。此外,在专利文献2中记载有,在PIV的光源中使用氩激光,通过将激光向旋转的多面镜进行入射,从而以片状进行扫描。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2007-085784号公报

专利文献2:日本特开2010-117190号公报

发明内容

发明将要解决的课题

然而,根据本发明人的深刻研究得知,以往的PIV会产生如下这种问题。以下,参照图14A以及图14B具体地进行说明。

图14A以及图14B是表示以往的PIV中的光源装置200生成的片状的激光L’的示意图。图14A是从-x方向观察光源装置200时的图,图14B是从-y方向观察光源装置200时的图。片状的激光L’照射示踪粒子12。片状的激光L’如图14A所示,一边沿y方向扩散一边行进。此外,片状的激光L’如图14B所示,在x方向上不扩散,具有恒定的宽度。

这里,若照射示踪粒子12,则由于该粒子12产生影13(参照图14A以及图14B)。因此,在以往的PIV中,存在不能观测影13的区域中漂浮的示踪粒子12a、测量结果的精度降低的问题。

本发明的目的在于提供一种能够在PIV中抑制因示踪粒子的影导致测量结果的精度降低的技术。

用于解决课题的手段

本发明的半导体激光光源装置射出激光片,该激光片在第一方向上扩散,且在与上述第一方向正交的第二方向上具有一定的宽度地行进,其特征在于,上述半导体激光光源装置具有:

光源部,包含沿上述第一方向排列的多个发射极;以及

透镜,将从多个上述发射极射出的激光转换为在上述第二方向上平行,

上述激光片通过从上述透镜射出的平行光重合而形成,

上述透镜包含按照多个上述发射极的每一个,将从各个上述发射极射出的上述激光转换为在上述第二方向上平行的多个透镜区域,

在多个上述发射极中的至少两个上述发射极和两个上述发射极所对应的两个上述透镜区域中,在以各个上述发射极在上述第二方向上的位置为基准时,上述发射极所对应的上述透镜区域在上述第二方向上的位置不同。

根据上述构成,在多个发射极中的至少两个发射极和两个发射极所对应的两个透镜区域中,发射极和发射极所对应的透镜区域的、关于第二方向的相对的位置关系不同。由此,从至少两个发射极射出的激光通过透镜区域转换为平行光后,不向同一方向行进,而是呈规定的角度地行进。其结果,能够减少基于示踪粒子的影的区域,能够抑制PIV的测量结果的精度降低。

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