[发明专利]系统隔离和光学隔间密封

权利要求书

1.一种镭射处理系统，其包含：

系统框架；

处理框架，其由该系统框架支撑且可相对于该系统框架移动，其中该处理框架经组配来支撑镭射源、工件定位系统及射束输送系统；

光学器件壁，其耦接至该处理框架；

处理护罩，其耦接至该系统框架且在该光学器件壁的上部周边区域及横向周边区域上方且并排地延伸，其中该处理护罩、该光学器件壁及该处理框架围封用于工件的镭射处理的第一空间，并且其中该处理框架可相对于该处理护罩移动；以及

光学器件护罩，其耦接至该处理护罩，其中该光学器件护罩、该光学器件壁及该处理框架围封用于容纳该镭射源的第二空间，并且其中该处理框架可相对于该光学器件护罩移动。

2.如权利要求1所述的镭射处理系统，其进一步包含柔性密封材料，该柔性密封材料设置在该处理护罩与该光学器件壁之间。

3.如权利要求1所述的镭射处理系统，其进一步包含柔性密封材料，该柔性密封材料设置在该光学器件护罩与该处理框架之间、在该光学器件护罩与该系统框架之间、或在该光学器件护罩与该处理框架以及该光学器件护罩与该系统框架集之间。

4.如权利要求1所述的镭射处理系统，其进一步包含：

处理基座，其支撑该处理框架；以及

支座，其将该处理基座支撑于该系统框架上。

5.如权利要求4所述的镭射处理系统，其中该处理基座包括花岗岩块。

6.如权利要求4所述的镭射处理系统，其中该支座包括弹性体材料。

7.如权利要求1所述的镭射处理系统，其中该光学器件壁包括界定于其中的射束埠，其中该射束埠经组配来传输可由该镭射源产生的镭射能量。

8.如权利要求1所述的镭射处理系统，其进一步包含该镭射源，其中该镭射源安装于该处理框架上。

9.如权利要求1所述的镭射处理系统，其进一步包含该镭射源，其中该镭射源配置于该第二空间内。

10.如权利要求1所述的镭射处理系统，其进一步包含该工件定位系统，其中该工件定位系统安装于该处理框架上且配置于该第一空间内。

11.如权利要求1所述的镭射处理系统，其进一步包含该射束输送系统，其中该射束输送系统配置于该第一空间内。

12.如权利要求1所述的镭射处理系统，其进一步包含一台架，该台架安装于该处理框架上且配置于该第一空间内。

13.如权利要求12所述的镭射处理系统，其进一步包含该射束输送系统，其中该射束输送系统安装至该台架。

14.如权利要求1所述的镭射处理系统，其进一步包含泵，该泵配置于该第二空间内，其中该泵经组配来对该第二空间加正压。

15.一种镭射处理系统，其包含：

系统框架；

光学器件隔间，其由该系统框架支撑且由光学器件护罩部分地界定，其中该光学器件隔间经组配来容纳镭射源；以及

处理隔间，其由该系统框架支撑且由一处理护罩部分地界定，其中该处理隔间与该光学器件隔间光学连通且经组配来容纳射束输送系统及工件定位系统，

其中该光学器件护罩及该处理护罩中的每一者部分地界定该镭射处理系统的外表面。

16.如权利要求15所述的镭射处理系统，其进一步包含该镭射源，其中该镭射源经组配来产生镭射能量且配置于该光学器件隔间内。

17.如权利要求15所述的镭射处理系统，其进一步包含该工件定位系统，其中该工件定位系统经组配来移动工件且配置于该处理隔间内。