[发明专利]表面保护膜及光学构件有效
| 申请号： | 201780004614.9 | 申请日： | 2017-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN108368393B | 公开（公告）日： | 2020-10-16 |
| 发明（设计）人： | 天野立巳;片冈贤一 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | C09J7/22 | 分类号： | C09J7/22;C09J7/25;C09J7/30;C08J7/044;C09J11/06;C09J121/00;C09J133/00;C09J175/04;C09J183/04;C09J201/00;G02B1/16 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 王海川;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表面 保护膜 光学 构件 | ||
1.一种表面保护膜，其具有：
基材，所述基材具有第一面和第二面；
防静电层，所述防静电层设置于所述基材的所述第一面上；以及
粘合剂层，所述粘合剂层由粘合剂组合物形成于所述基材的所述第二面上，
其特征在于，
所述防静电层由防静电剂组合物形成，
所述防静电剂组合物含有作为导电聚合物成分的聚苯胺磺酸、作为导电聚合物成分的掺杂有聚阴离子类的聚噻吩类、以及粘结剂，
所述聚苯胺磺酸与所述掺杂有聚阴离子类的聚噻吩类的配合比例以质量比计为51：49～95：5。
2.根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述聚噻吩类为聚(3,4-亚乙基二氧噻吩)(PEDOT)。
3.根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述聚阴离子类为聚苯乙烯磺酸(PSS)。
4.根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述粘结剂为聚酯树脂。
5.根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述防静电剂组合物包含三聚氰胺类交联剂和/或异氰酸酯类交联剂作为交联剂。
6.根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述防静电剂组合物包含选自由脂肪酸酰胺、脂肪酸酯、聚硅氧烷类润滑剂、含氟型润滑剂和蜡类润滑剂构成的组中的至少一种作为润滑剂。
7.根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述粘合剂组合物含有选自由丙烯酸类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、橡胶类粘合剂和聚硅氧烷类粘合剂构成的组中的至少一种。
8.根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述粘合剂组合物含有具有亚烷基氧化物基团的化合物。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的表面保护膜，其特征在于，所述粘合剂组合物含有防静电成分。
10.一种光学构件，其特征在于，所述光学构件由权利要求1～9中任一项所述的表面保护膜保护。
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