[发明专利]清洁装置和柔性显示器的制造设备

说明书

一种清洁装置(10)，用于清洁器件基板(800)，所述清洁装置(10)包括容置槽(11)、设置在容置槽(11)中的湿式滚刷(12)、干式滚刷(13)和驱动装置(14)，容置槽(11)用于存储清洁剂，湿式滚刷(12)用于利用容置槽(11)中的清洁剂清洁基板(820)的下表面，干式滚刷(13)用于清洁器件薄膜(840)，驱动装置(14)连接湿式滚刷(12)和干式滚刷(13)，并用于驱动湿式滚刷(12)脱离容置槽(11)并转动以清洁基板(820)的下表面，及用于驱动干式滚刷(13)转动以清洁器件薄膜(840)。

技术领域

本发明涉及显示器领域，特别涉及一种清洁装置和柔性显示器的制造设备。

背景技术

在相关技术中，柔性显示器在制造过程中一般在器件基板上制作柔性衬底，并在柔性衬底上形成器件薄膜，最后利用激光剥离技术将器件基板和柔性衬底剥离以形成柔性显示器。激光剥离技术利用激光从器件基板穿透到柔性衬底，所以器件基板的洁净度会影响剥离的成功率，因此需要对器件基板进行清洁。但是，清洁过程中产生的清洁剂汽可能会破坏形成在柔性衬底上的器件薄膜，比如有机发光二极管(OLED)等。

发明内容

本发明的实施方式提供一种清洁装置和柔性显示器的制造设备。

本发明实施方式提供的一种清洁装置，用于清洁器件基板，所述器件基板包括基板和设置在所述基板上表面的器件薄膜，所述清洁装置包括：

容置槽，所述容置槽用于存储清洁剂；和

设置在所述容置槽中的湿式滚刷，所述湿式滚刷用于利用所述容置槽中的清洁剂清洁所述基板的下表面；

干式滚刷，所述干式滚刷用于清洁所述器件薄膜；

驱动装置，所述驱动装置连接所述湿式滚刷和所述干式滚刷，并用于驱动所述湿式滚刷脱离所述容置槽并转动以清洁所述基板的下表面，及用于驱动所述干式滚刷转动以清洁所述器件薄膜。

本发明实施方式提供的一种柔性显示器的制造设备，包括所述清洁装置。

本发明实施方式的清洁装置和柔性显示器的制造设备利用驱动装置使得湿式滚刷可脱离容置槽以避免清洁剂从容置槽飞溅到器件薄膜，同时利用干式滚刷清洁器件薄膜并吸附器件薄膜中的水汽，避免了器件薄膜受到水汽的破坏。

本发明的实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实施方式的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本发明实施方式的清洁装置的结构示意图；

图2是本发明实施方式的器件基板的结构示意图；

图3是本发明实施方式的柔性显示器的制造设备的模块示意图；

图4是本发明实施方式的清洁装置的另一个结构示意图；

图5是本发明实施方式的固定部件的模块示意图；

图6是本发明实施方式的清洁装置的再一个结构示意图；

图7是本发明实施方式的清洁装置的又一个结构示意图；

图8是本发明实施方式的滚刷移动机构的模块示意图。

主要元件符号附图说明：

制造设备100、清洁装置10、容置槽11、湿式滚刷12、干式滚刷13、驱动装置14、滚刷移动机构142、气缸1422、比例阀1424、第一导轨144、第二导轨146、传送部件15、固定部件16、固定气孔162、抽湿气孔164、固定部移动机构166、剥离装置20、器件基板800、基板820、器件薄膜840。