[实用新型]一种增亮膜和背光模组有效

专利信息
申请号: 201721909937.6 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN208283584U 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 邢其彬;晏水平;杨政宪 申请(专利权)人: 深圳市聚飞光学材料有限公司
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02;G02F1/13357
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 江婷;李发兵
地址: 518111 广东省深圳市龙岗*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 增亮膜 本实用新型 粗糙面 进光面 基材 背光模组 多层 粗糙 干涉条纹 组装良率 出光面 水波纹 底面 漫射 雾度 粒子 掺杂
【权利要求书】:

1.一种增亮膜,其特征在于,包括:基材,所述基材具有一对相反的表面,分别为进光面和出光面,所述进光面包括一层粗糙底面,以及在所述粗糙底面上形成的至少一层第一粗糙面,所述粗糙底面和所述第一粗糙面用于提升所述进光面的雾度。

2.如权利要求1所述的增亮膜,其特征在于,所述第一粗糙面的层数为一层。

3.如权利要求2所述的增亮膜,其特征在于,所述第一粗糙面由在所述粗糙底面设置多个凸点形成,和/或所述第一粗糙面由在所述粗糙底面增设多个凹点形成。

4.如权利要求3所述的增亮膜,其特征在于,所述多个凸点和/或所述多个凹点在所述粗糙底面上的第一厚度的区域内。

5.如权利要求3所述的增亮膜,其特征在于,所述多个凸点和/或多个凹点在所述粗糙底面上的密度不低于预设第一密度阈值。

6.如权利要求1-5任一项所述的增亮膜,其特征在于,在所述粗糙底面上的所述第一粗糙面以镭射、喷砂、蚀刻、电镀和涂布中的至少一种方式形成。

7.如权利要求1-5任一项所述的增亮膜,其特征在于,所述粗糙底面以机械挖点的方式形成。

8.如权利要求1-5任一项所述的增亮膜,其特征在于,所述第一粗糙面的雾度的范围为10%-80%。

9.如权利要求1-5任一项所述的增亮膜,其特征在于,一层所述第一粗糙面和所述粗糙底面组成的表面的雾度范围为10%-60%。

10.一种背光模组,其特征在于,包括光源、设置在所述光源一侧的导光板、设置在所述导光板下方的反射板、设置在所述导光板上方的下扩散板,以及设置在所述下扩散板上方的如权利要求1-9任一项所述的增亮膜。

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