[实用新型]一种流体抛光机

权利要求书

1.一种流体抛光机，包括：上梁架与下梁架上均设有研磨抛光机构，所述研磨抛光机构包括磨料缸筒和用以推动磨料缸筒内磨料上、下往复运动的研磨抛光活塞，所述研磨抛光活塞伸入所述磨料缸筒内推动磨料运动，其特征在于：

所述研磨抛光活塞在驱动装置内部；驱动装置和磨料缸筒通过法兰连接；

设于磨料缸筒外围的冷凝装置，所述冷凝装置具有进水口和出水口，且和所述磨料缸筒紧密接触。

2.根据权利要求1所述的流体抛光机，其特征在于，所述冷凝装置设于下磨料缸筒的外围。

3.根据权利要求1所述的流体抛光机，其特征在于，所述冷凝装置设于上磨料缸筒的外围。

4.根据权利要求3所述的流体抛光机，其特征在于，所述冷凝装置底端设有导流装置，将冷凝过程中产生的水进行导流。

5.根据权利要求1-4任一所述的流体抛光机，其特征在于，所述冷凝装置包括中空管道，所述中空管道围绕在磨料缸筒的外部。

6.根据权利要求1-4任一所述的流体抛光机，其特征在于，所述冷凝装置包括中空管道，所述中空管道沿磨料缸筒外壁竖直方向呈曲线状排列，并与所述磨料缸筒外壁相接触。

7.根据权利要求1-4任一所述的流体抛光机，其特征在于，所述冷凝装置包括中空的缸筒。

8.根据权利要求7所述的流体抛光机，其特征在于，所述中空缸筒包括外壁围成的半封闭的腔体，所述腔体的上端和下端通过密封圈或法兰与所述磨料缸筒的外壁密封连接，所述中空缸筒的外壁、所述磨料缸筒的外壁、腔体的上端、腔体的下端形成密闭的液体容置空间。

9.根据权利要求7所述的流体抛光机，其特征在于，所述中空缸筒包括中空的腔体，腔体内形成密封的液体容置空间；所述中空缸筒的横截面为圆环形，中空缸筒的内环面与磨料缸筒的外壁相接触。