[实用新型]一种蒸馏回流比控制装置

说明书

本实用新型涉及化工单元操作领域，尤其涉及一种蒸馏回流比控制装置，包括：支撑架，插入支撑架上端的进料管，固接于支撑架上端的分布装置及设于支撑架底部的承接装置，所述承接装置包括固接于支撑架底部的滑轨，设于滑轨上沿滑轨滑动的承接盘，固接于承接盘底部的丝母及穿过支撑架侧壁与丝母套螺纹连接的丝杆，承接盘通过中部的挡板分割为回流室及出料室，通过丝杆丝母配合调节承接盘的位置，改变回流室与出料室进入的冷凝液流量，即可控制回流比稳定连续的变化，其结构简单，使用方便，精确度高，且使用机械结构无需供电，不存在安全隐患。

技术领域

本实用新型涉及化工单元操作领域，尤其涉及一种蒸馏回流比控制装置。

背景技术

回流比是化工单元操作中的重要控制项目之一，现有的回流比控制手段通常有以上两种方式：

采用调节阀与流量计相配合实现比例控制，这种技术方式造价高，对自控系统的要求较高，精度一般，且对较小流量时精度较差，特别不适合小型装置的回流比精度控制。

摆斗式回流比控制器，其精度高、结构简单、系统可靠性高、控制方便，但是由于电磁摆斗是通过脉冲周期的时间比例来控制回流比，需要始终处于通电状态，线圈发热，磁力线下降，容易出现烧坏线圈的情况，影响其正常工作。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，提供一种使用方便、精度高的蒸馏回流比控制装置。

本实用新型是通过以下技术方案予以实现：

一种蒸馏回流比控制装置，其特征在于，包括：支撑架，插入支撑架上端的进料管，固接于支撑架上端的分布装置及设于支撑架底部的承接装置，

所述分布装置包括固接于支撑架顶部的固定杆及固接于固定杆下端的液体分布器，进料管的出口位于液体分布器的上端，

所述承接装置包括固接于支撑架底部的滑轨，设于滑轨上沿滑轨滑动的承接盘，固接于承接盘底部的丝母及穿过支撑架侧壁与丝母套螺纹连接的丝杆，所述承接盘底部固接有与滑轨相对应的滑块，承接盘通过中部的挡板分割为回流室及出料室，回流室底部连接有回流管，出料室底部连接有出料管。

优选的，所述丝杆外侧一端安装有手轮。

本实用新型的有益效果是：

通过丝杆丝母配合调节承接盘的位置，改变回流室与出料室进入的冷凝液流量，即可控制回流比稳定连续的变化，其结构简单，使用方便，精确度高，且使用机械结构无需供电，不存在安全隐患。

附图说明

图1是本实用新型的主视结构示意图。

图2是本实用新型的俯视结构示意图。

图中：1.支撑架，2.进料管，3.固定杆，4.液体分布器，5.滑轨，6.承接盘，7.丝母，8.丝杆，9.滑块，10.回流室，11.出料室，12.回流管，13. 出料管，14.手轮，15.挡板。

具体实施方式

为了使本技术领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和最佳实施例对本实用新型作进一步的详细说明。

如图所示，本实用新型包括：支撑架1，插入支撑架上端的进料管 2，固接于支撑架上端的分布装置及设于支撑架底部的承接装置，

所述分布装置包括固接于支撑架顶部的固定杆3及固接于固定杆下端的液体分布器4，进料管的出口位于液体分布器的上端，