[实用新型]带封闭式缺口的两片式同步整流二极管有效

专利信息
申请号: 201721879300.7 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN207966978U 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: 李明芬;吴南;吕敏;李联勋;马东平;王鹏;徐明星 申请(专利权)人: 山东芯诺电子科技股份有限公司
主分类号: H01L25/16 分类号: H01L25/16;H01L23/495
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 代理人: 周仕芳;卢登涛
地址: 272100 山东省济*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 封闭式缺口 同步整流二极管 控制IC芯片 内置电容 两片式 外置 引脚 本实用新型 结构缺陷 键合线 接线端 外接线 整合 优化
【说明书】:

实用新型公开了带封闭式缺口的两片式同步整流二极管,包括第一框架、MOSFET芯片、控制IC芯片、第二框架、内置电容,所述第二框架有两个外置引脚,第二框架上设有封闭式缺口,控制IC芯片固定在第二框架,内置电容的外接线端连接第二框架上,内接线端位于封闭式缺口处;第一框架设有一个外置引脚,MOSFET芯片固定在第一框架上;所述MOSFET芯片、控制IC芯片、内置电容之间通过键合线连接。带封闭式缺口的两片式同步整流二极管,优化了结构,整合PAD可利用面积,排除了易造成不良的结构缺陷。

技术领域

本实用新型涉及芯片生产领域,尤其是一种带封闭式缺口的两片式同步整流二极管。

背景技术

肖特基整流管的结构原理与PN结整流管有很大的区别通常将PN结整流管称作结整流管,而把金属-半导管整流管叫作肖特基整流管。现有的整流元件肖特基二极管存在整流损耗大转换效率低的问题。

同步整流二极管是由控制IC、功率MOSFET及其附属电路组成,从而实现低损耗整流的新技术。现有同步整流结构元件拙而不巧,尺寸较大,散热困难、引脚纤细反复,对安装使用造成一定的困扰。

实用新型内容

为了解决现有技术的不足,本实用新型提出了带封闭式缺口的两片式同步整流二极管,优化了结构,整合PAD可利用面积,排除了易造成不良的结构缺陷。

本实用新型采用如下技术方案:

带封闭式缺口的两片式同步整流二极管,包括第一框架、MOSFET芯片、控制IC芯片、第二框架、内置电容,所述第二框架有两个外置引脚,第二框架上设有封闭式缺口,控制IC 芯片固定在第二框架,内置电容的外接线端连接第二框架上,内接线端位于封闭式缺口处;第一框架设有一个外置引脚,MOSFET芯片固定在第一框架上;所述MOSFET芯片、控制IC芯片、内置电容之间通过键合线连接。

进一步地,所述内置电容为MLCC电容。

进一步地,所述第一框架、第二框架为铜合金框架。

进一步地,所述第一框架、MOSFET芯片、控制IC芯片、第二框架、内置电容通过键合线焊接成型后封装于塑封体内,构成一个整体的同步整流二极管。

更进一步地,所述第一框架的外置引脚为同步整流二极管的阴极,第二框架的外置引脚为同步整流二极管的阳极。

采用如上技术方案取得的有益技术效果为:

顺应半导体整流器件向轻薄化、小型化、表面贴装的发展趋势,本实用新型研发的紧凑型同步整流结构及其制作方法,通过元件集成、优化结构,排除易造成不良的结构缺陷等手段,达到缩小元件尺寸,简化安装工艺,提高散热性之目的,因此该同步整流结构具有极大的优越性。

带封闭式缺口的两片式同步整流二极管,优化了结构,整合PAD可利用面积(PCB或印刷电路板中的焊盘放入面积),排除了易造成不良的结构缺陷。

利用冲切方式在第二框架上冲出闭合缺口以容纳MLCC电容,该方法保证了框架的完整性并提高了塑封体与框架的结合力,避免了塑封过程中胶体对框架的冲击作用,且整合了第二框架可利用PAD面积,为后期打键合线及扩展提供了空间。

附图说明

图1为带封闭式缺口的两片式同步整流二极管结构示意图。

图2为带封闭式缺口的两片式同步整流二极管制作过程示意图。

图3为带封闭式缺口的两片式同步整流二极管产品封装外形尺寸。

图4为带封闭式缺口的两片式同步整流二极管产品内部控制原理图。

图5为本实用新型正向整流应用电路图。

图6为本实用新型反向整流应用电路图。

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