[实用新型]一种薄膜晶体管膜层

说明书

本实用新型公开一种薄膜晶体管膜层。所述膜层包括第一膜层、第二膜层、第三膜层、第五膜层、第一图案化膜层和第二图案化膜层，所述第一膜层上设置有所述第二膜层，所述第二膜层上设置有所述第三膜层，所述第三膜层上设置有所述第五膜层，所述第五膜层上设置有所述第一图案化膜层，所述第一图案化膜层上设置有所述第二图案化膜层。本实用新型的膜层中的第二图案化膜层在第一图案化膜层的基础上直接设置得到的，无需再通过旋涂光刻、湿刻等复杂的工艺，缩短了工艺周期、降低了制造薄膜晶体管成本。

技术领域

本实用新型涉及晶体管制造领域，特别是涉及一种薄膜晶体管膜层。

背景技术

目前，在液晶显示、有机电致发光、触摸屏等领域的实际应用中，均需要使用到薄膜晶体管控制像素的开启和关闭，因此高性能、低成本的薄膜晶体管一直是众多研究者不断攀登的高峰。而薄膜晶体管的制造中电极层和绝缘层的图案化过程复杂，需要通过五次的光刻、刻蚀工艺制作完成。因此，提高膜层的图案化就能迅速的制备薄膜晶体管。传统的图案化过程包括：(1)在清洗干净的玻璃基板上溅射膜层；(2)旋涂光刻胶并进行前烘；(3)使用光刻设备和掩模板对光刻胶曝光使其部分变性，易溶解于显影液；(4)利用显影液溶解部分光刻胶使膜层特定位置裸露出来，以进行刻蚀，(5)使用相应刻蚀液刻蚀裸露出的膜层，而未裸露的膜层不受影响；(6)去除光刻胶，完成膜层的图案化。传统的方法制作薄膜晶体管膜层的方法经过至少5次光刻和刻蚀工艺实现图案化，工艺周期长、生产成本高昂。而刻蚀工艺是目前实现电极、有源层和绝缘层等图案化的必需工艺，可采用湿法刻蚀或干法刻蚀，但两种方法都存在不足，如干法刻蚀设备要求较高，成本也较高；而湿法刻蚀使用化学试剂存在一定环境危害性，以及对人体的潜在损伤。

因此，如何提供一种缩短工艺周期、降低制造薄膜晶体管成本以及对人身体安全的薄膜晶体管膜层结构，成为本领域技术人员亟需解决的技术问题。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种成膜成本低、刻蚀工艺次数少、对人身体安全的薄膜晶体管膜层。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下方案：

一种薄膜晶体管膜层，所述膜层包括：第一膜层、第二膜层、第三膜层、第五膜层、第一图案化膜层和第二图案化膜层，所述第一膜层上设置有所述第二膜层，所述第二膜层上设置有所述第三膜层，所述第三膜层上设置有所述第五膜层，所述第五膜层上设置有所述第一图案化膜层，所述第一图案化膜层上设置有所述第二图案化膜层。

可选的，所述膜层还包括第四膜层，所述第四膜层位于所述第三膜层上，所述第四膜层用于溶解显影液得到所述第五膜层。

根据本实用新型提供的具体实施例，本实用新型公开了以下技术效果：

本实用新型是在第一图案化膜层的基础上直接得到第二图案化膜层，无需重新构造第一膜层、第二膜层、第三膜层、第五膜层得到第二图案化膜层，显然，本实用新型的膜层结构可以缩短图案化膜层的制造工艺周期、降低制造薄膜晶体管膜层的成本。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例1薄膜晶体管膜层结构图；

图2为本实用新型实施例2薄膜晶体管膜层的制造方法流程图；

图3为本实用新型实施例3薄膜晶体管膜层的制造装置结构图；

图4为本实用新型实施例3极性化材料图案化示意图；

图5为本实用新型实施例3有源层制作示意图；

图6为本实用新型实施例3发光层制作示意图。