[实用新型]单晶硅真空粉尘过滤装置

说明书

本实用新型公开了一种单晶硅真空粉尘过滤装置，该装置设有离线反吹口，装置进出气侧设置有压差计，装置底部为粉尘存储空间，装置内部的滤芯为筒式的折波结构，固定在不锈钢内骨架上，过滤精度可达5～200μm，单根滤芯的过滤面积是同规格非折波滤芯的四倍。本实用新型装置结构紧凑设计合理，通过滤芯，粉尘过滤精度可以达到5μm，滤芯表面随着粉尘堆积形成滤饼层，进一步提升过滤精度可以达到3μm，有效保护后续氩气纯化设备的正常运行。在保证过滤性能的同时，耐高温性能相较原非金属滤材有明显的提升，同时机械强度更高，能够反复清洗重复利用，是单晶炉氩气回收系统真空粉尘过滤的理想选择。

技术领域

本实用新型属于环保技术领域，涉及一种用于单晶硅氩气回收系统中，拦截从单晶炉中被携带出的大量高温、粒径不一的固体颗粒，保护真空泵及氩气纯化装置正常运行的惰性气体净化装置。

背景技术

单晶硅生产过程中，一般均采用氩气作为单晶炉保护气，保护单晶硅成晶工艺的正常运行。出于经济型及环保需求的考虑，此氩气要求回收循环利用，但成晶工艺对氩气的纯度有较高要求，所以单晶炉排出的氩气必须经过净化提纯。目前行业内一般在单晶炉后设置真空过滤器，拦截单晶炉中被携带出的粉尘，保护后续提纯工艺的正常运行。其中核心过滤元件一般选用非金属过滤材质，过滤性能基本满足要求，但因设备距离单晶炉较近，被夹带的粉尘温度较高，极易对过滤元件造成烧蚀而影响其过滤性能和使用寿命，严重制约装置的正常运行。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种单晶硅真空粉尘过滤装置，在保证过滤性能的同时，耐高温性能相较原非金属滤材有明显的提升，同时机械强度更高，能够反复清洗重复利用，是单晶炉氩气回收系统真空粉尘过滤的理想选择。

本实用新型的技术方案是，一种单晶硅真空粉尘过滤装置，其特征是：该装置设有离线反吹口，装置进出气侧设置有压差计，装置底部为粉尘存储空间，装置内部的滤芯为筒式的折波结构，折波结构固定在不锈钢内骨架上，过滤精度可达5～200μm，单根滤芯的过滤面积是同规格非折波滤芯的四倍。

本实用新型装置以压力容器为最终供货形式，接管法兰均采用真空法兰形式，保证密封，设有离线反吹口，利用停炉机会进行反吹，使滤芯再生。设备进出气侧设置有压差计，可实时监控设备运行情况，当设备压差较大时，可利用近期停炉机会进行反吹再生，或将滤芯拆下进行彻底清洗再生，操作便捷。设备底部为粉尘存储空间，当粉尘堆积达到一定量时开启底部排污口进行排污。

本装置的核心为采用不锈钢材质的滤芯。将不锈钢材料拉伸至2～20μm的直径，随后经过无纺铺制、叠配、高温烧结等工艺制成1.5～2mm厚度的不锈钢丝毡，过滤精度可达5～200μm，具有耐高温、耐腐蚀、孔隙率高、透气性好、过滤精度高、易再生等特点，同时运行阻力低，圆满满足工况要求。将此滤材打折，制成筒式的折波结构滤芯，如此单根滤芯的过滤面积将达到同规格非折波滤芯的四倍，同时也能增强滤芯的纵向结构强度。配合特殊设计的固定形式，满足拆装简便、安装牢固的要求。

本实用新型装置结构紧凑设计合理，通过滤芯，粉尘过滤精度可以达到5μm，滤芯表面随着粉尘堆积形成滤饼层，进一步提升过滤精度可以达到3μm，有效保护后续氩气纯化设备的正常运行。

附图说明

图1是本实用新型装置结构示意图。.

图2是滤芯的局部放大结构示意图。

附图标号：1为气体进口，2为气体出口，3为排污口，4为反吹口，5、6为压差计接口，7为滤芯，8为不锈钢内骨架，9为折波结构。

具体实施方式

如图1所示，工艺气由气体进口1进入装置内部，通过内部不锈钢滤芯7，粉尘颗粒被拦截在滤芯外部，干净气体从设备顶部气体出口2排出。滤芯表面随着粉尘堆积形成滤饼层，进一步提升过滤精度。粉尘堆积一定厚度落入装置下部，通过排污口3排出。