[实用新型]光阻涂布槽清洗装置有效
| 申请号: | 201721842397.4 | 申请日: | 2017-12-25 |
| 公开(公告)号: | CN207857493U | 公开(公告)日: | 2018-09-14 |
| 发明(设计)人: | 徐猛;黄志凯 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号: | B08B9/093 | 分类号: | B08B9/093 |
| 代理公司: | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人: | 孙佳胤 |
| 地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光阻涂布 清洗装置 清洗组件 槽壁 本实用新型 轨道运动 清洗液 轨道 清洗 半导体制造技术 喷射气体 清洗效率 人力成本 生产效率 晶圆 停机 外周 喷射 环绕 | ||
1.一种光阻涂布槽清洗装置,其特征在于,包括:
轨道,环绕一光阻涂布槽的外周设置;
第一清洗组件,与第二清洗组件先后进入所述轨道,且能够沿所述轨道运动,用于向光阻涂布槽的槽壁喷射清洗液;
第二清洗组件,连接所述轨道且能够沿所述轨道运动,用于向所述槽壁喷射气体,以干燥位于所述槽壁上的清洗液。
2.根据权利要求1所述的光阻涂布槽清洗装置,其特征在于,所述第一清洗组件包括第一喷头、第一支架和第一连接部;所述第一喷头,连接所述第一支架,用于向所述槽壁喷射清洗液;所述第一连接部,连接所述轨道,用于将所述第一支架从第一复位位置转移至所述轨道;所述第一支架用于沿所述轨道运动。
3.根据权利要求2所述的光阻涂布槽清洗装置,其特征在于,所述第一喷头呈弧形,且所述第一喷头能够沿所述第一支架的轴向进行升降运动。
4.根据权利要求2所述的光阻涂布槽清洗装置,其特征在于,所述第二清洗组件包括第二喷头、第二支架和第二连接部;所述第二喷头,连接所述第二支架,用于向所述槽壁喷射气体,以干燥位于所述槽壁上的清洗液;所述第二连接部,连接所述轨道,用于将所述第二支架从第二复位位置转移至所述轨道;所述第二支架用于沿所述轨道运动。
5.根据权利要求4所述的光阻涂布槽清洗装置,其特征在于,所述第二喷头呈弧形,且所述第二喷头能够沿所述第二支架的轴向进行升降运动。
6.根据权利要求4所述的光阻涂布槽清洗装置,其特征在于,还包括控制器,所述控制器,同时连接所述第一清洗组件和所述第二清洗组件,用于控制所述第一清洗组件、所述第二清洗组件先后进入所述轨道。
7.根据权利要求6所述的光阻涂布槽清洗装置,其特征在于,所述控制器,连接所述第一连接部,用于控制所述第一连接部将所述第一支架从所述第一复位位置转移至所述轨道,并判断所述第一支架是否沿所述轨道运行第一预设时间,若是,则控制所述第一连接部将所述第一支架从所述轨道转移至所述第一复位位置。
8.根据权利要求7所述的光阻涂布槽清洗装置,其特征在于,所述控制器,连接所述第二连接部,用于判断所述第一支架是否位于所述第一复位位置,若是,则控制所述第二连接部将所述第二支架从所述第二复位位置转移至所述轨道,并判断所述第二支架是否沿所述轨道运行第二预设时间,若是,则控制所述第二连接部将所述第二支架从所述轨道转移至所述第二复位位置。
9.根据权利要求1所述的光阻涂布槽清洗装置,其特征在于,所述清洗液为丙酮。
10.根据权利要求9所述的光阻涂布槽清洗装置,其特征在于,所述气体为氮气。
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