[实用新型]一种离心式均匀性调节装置以及镀膜系统

说明书

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种离心式均匀性调节装置以及镀膜系统。该离心式均匀性调节装置包括：动态靶、离心式旋转装置、基片和基片驱动装置；所述基片驱动装置与所述基片连接，所述基片驱动装置用于带动所述基片进行旋转移动；所述动态靶设置于所述基片的下方，且与所述离心式旋转装置连接，所述离心式旋转装置用于驱动所述动态靶进行偏心旋转移动，以调节所述动态靶与所述基片之间的相对位置。该离心式均匀性调节装置有效的改善镀膜自然均匀性，增加了镀膜产品的有效面积，提高单片基片的产出率，较低了产品生产成本。

技术领域

本实用新型涉及镀膜技术领域，尤其是涉及一种离心式均匀性调节装置以及镀膜系统。

背景技术

随着光通讯行业的快速发展，光学镀膜应用越来越广泛，对光学镀膜产品的需求逐年增加。市场对光学镀膜产品的指标要求越来越高。当前市场上的光学镀膜产品中的高端滤光片工艺控制过程复杂，对其镀膜设备要求很高，目前几乎全部依靠进口设备生产，以德国、美国和日本生产设备为主，国内制造的镀膜设备在该领域仍是空白。即使成熟的进口设备在批量生产过程中仍难大批量生产，其主要原因是镀膜过程中对薄膜厚度的控制要求极高，精度要求达到纳米级。镀膜机的蒸发源或溅射源在蒸发或溅射过程中存在蒸发或溅射角度，该角度使得材料分子镀到产品表面时出现不同区域厚度差异。传统的镀膜机蒸发源或溅射源是固定在真空室某个区域，不能调整。为了改善其镀膜膜层的均匀性，通常做法是加装一套修正板，通过调整修正板的位置或形状(实际就是调整修正板遮挡的面积和位置)来实现调整均匀性。这种修正方式精度低、调整过程复杂，不利于大规模生产。基于设备存在结构缺陷和工艺调整手段不足，很大程度上制约了设备的生产高端镀膜产品的能力。

公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本申请的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种离心式均匀性调节装置以及镀膜系统，它解决了镀膜机均匀性先天不足的缺陷，改善了镀膜膜层均匀性，提高了镀膜合格率，降低了产品生产成本。

为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

第一方面，本实用新型提供一种离心式均匀性调节装置，其包括：动态靶、离心式旋转装置、基片和基片驱动装置；

所述基片驱动装置与所述基片连接，所述基片驱动装置用于带动所述基片进行旋转移动；

所述动态靶设置于所述基片的下方，且与所述离心式旋转装置连接，所述离心式旋转装置用于驱动所述动态靶进行偏心旋转移动，以调节所述动态靶与所述基片之间的相对位置。

作为一种进一步的技术方案，所述基片驱动装置为第一电机，所述第一电机的输出端与所述基片连接。

作为一种进一步的技术方案，所述基片通过锁紧装置安装于所述第一电机的输出端。

作为一种进一步的技术方案，所述离心式旋转装置包括：离心偏转曲轴、旋转密封体和第二电机；

所述离心偏转曲轴的上端与所述动态靶连接，所述离心偏转曲轴的下端与所述旋转密封体连接，所述离心偏转曲相对于所述旋转密封体的旋转中心线呈偏心设置；

所述旋转密封体与所述第二电机连接，所述第二电机用于驱动所述旋转密封体进行转动。

作为一种进一步的技术方案，所述离心式旋转装置还包括：底座和支架；

所述旋转密封体通过支架安装于所述底座上；

所述第二电机设置于所述底座的下方。

作为一种进一步的技术方案，所示离心偏转曲轴与所述旋转密封体之间设置有内部通道。

作为一种进一步的技术方案，所述离心偏转曲轴包括一体连接的