[实用新型]一种纳米硅手机保护防爆膜有效

专利信息
申请号: 201721835134.0 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN207859635U 公开(公告)日: 2018-09-14
发明(设计)人: 余正波 申请(专利权)人: 深圳市方胜光学材料科技有限公司
主分类号: B32B7/06 分类号: B32B7/06;B32B33/00;B32B9/00;B32B9/04;B32B27/06;B32B27/30;B32B27/36;B32B27/08;B32B3/24
代理公司: 深圳市道勤知酷知识产权代理事务所(普通合伙) 44439 代理人: 何兵;饶盛添
地址: 518000 广东省深圳市宝安区西*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 外边框 本实用新型 纳米硅层 手机保护 防爆膜 纳米硅 树脂层 硬化层 胶层 边框 上保护膜层 下保护膜层 耐磨性 抗冲击性 有效解决 手机膜 钛合金 张贴
【权利要求书】:

1.一种纳米硅手机保护防爆膜,包括PET基材层(105)和外边框(104);其特征是,所述PET基材层(105)的上面依次设有硬化层(102)和上保护膜层(101);所述PET基材层(105)的下面依次设有OCA胶层(106)、树脂层(107)、纳米硅层(108)和下保护膜层(109);所述外边框(104)采用钛合金边框;所述外边框设在纳米硅层(108)上;所述外边框将硬化层(102)、PET基材层(105)、OCA胶层(106)和树脂层(107)包裹。

2.根据权利要求1所述的一种纳米硅手机保护防爆膜,其特征是:所述外边框(104)外圈的上面设为弧形(103)。

3.根据权利要求1所述的一种纳米硅手机保护防爆膜,其特征是:所述上保护膜层(101)和下保护膜层(109)之间设有垂直贯通的切孔(201),切孔用于前摄像头、听筒和触摸键的裸露。

4.根据权利要求1所述的一种纳米硅手机保护防爆膜,其特征是:防爆膜的整体厚度为0.5±0.05mm。

5.根据权利要求1所述的一种纳米硅手机保护防爆膜,其特征是:所述硬化层(102)上设有防指纹油涂层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市方胜光学材料科技有限公司,未经深圳市方胜光学材料科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721835134.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top