[实用新型]一种提高HMDS喷涂均匀性的结构

说明书

本实用新型涉及光刻领域，公开了一种提高HMDS喷涂均匀性的结构，在所述HMDS的喷涂腔室内设置若干个HMDS喷嘴，各所述HMDS喷嘴与HMDS供给管路连接。采用该技术方案有利于提高大尺寸玻璃基板HMDS喷涂均匀性。

技术领域

本实用新型涉及光刻领域，特别涉及一种提高HMDS喷涂均匀性的结构。

背景技术

在平板显示成像制程中，玻璃涂胶前会经过清洗—涂HMDS—去水烘干—冷却—涂胶，其中涂HMDS的作用主要是增强光刻胶与玻璃表面非金属、金属的黏附性，一般使用接触角大小进行表征。目前设备结构在喷涂腔室内顶盖中心有一个喷嘴，玻璃进入后做HMDS涂敷时，先对腔室抽真空，然后喷嘴喷出HMDS，玻璃边缘部分接触到的HMDS相对稍小，因此，也就导致了玻璃边缘部分接触角相对偏小。做玻璃接触角测试时，会测量多个点，当每个测量点的接触角大小相差大，也就是均一性比较差时，涂胶、成像后会因为表面张力差异产生图形走线小缺口不良，甚至断线。同时也会因有的玻璃表面区域接触角过大而黏附性过强，导致脱膜不净。

实用新型内容

鉴于上述问题，本实用新型实施例的目的在于提供一种提高HMDS喷涂均匀性的结构，有利于提高大尺寸玻璃基板HMDS喷涂均匀性。

本实用新型实施例提供的一种提高HMDS喷涂均匀性的结构，其特征在于，在所述HMDS的喷涂腔室内设置若干个HMDS喷嘴，各所述HMDS喷嘴与HMDS供给管路连接。

可选地，所述HMDS供给管路上设有各所述HMDS喷嘴的控制阀门，用于控制所述HMDS喷嘴开启、关闭及HMDS流量调节。

可选地，设置所述HMDS喷嘴5个，分别位于所述腔室的顶盖四角以及中心。

可选地，所述HMDS喷嘴形状为圆柱形。

可选地，所述HMDS喷嘴形状为锥形。

由上可见，应用本实施例技术方案，由于在所述腔室顶盖的四个角、中心各有喷嘴分布，有利于提高大尺寸玻璃基板HMDS喷涂均匀性，使得接触角均一，改善图形走线小缺口以及脱膜不净。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型提供的一种提高HMDS喷涂均匀性的结构示意图；

图2为本实用新型提供的另一种提高HMDS喷涂均匀性的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例：

本实施例提供一种提高HMDS喷涂均匀性的结构，如图1所示，在所述HMDS的喷涂腔室10内设置若干个HMDS喷嘴20，各所述HMDS喷嘴20与HMDS供给管路30连接。所述HMDS供给管路30上设有各所述HMDS喷嘴20的控制阀门，用于控制所述HMDS喷嘴20开启、关闭及HMDS流量调节。可以但不限于，设置所述HMDS喷嘴20为5个，分别位于所述腔室10的顶盖四角以及中心。所述HMDS喷嘴形状为圆柱形、锥形或其他形状，可以根据需要设计喷嘴形状，如图1和2所示。所述接触角为在气、液、固三相交点处所作的气-液界面的切线，此切线在液体一方的与固-液交界线之间的夹角θ，是润湿程度的量度。