[实用新型]一种基质培与水培一体的栽培装置

权利要求书

1.一种基质培与水培一体的栽培装置，包括环状的围壁(1)和设置在围壁(1)内的底座(2)，其特征在于：所述底座(2)包括四个环形阵列布置的支撑组件，每个支撑组件从底座(2)的边缘向中间延伸，每个支撑组件至少包括由下至上设置的小径支撑台(3)和大径支撑台(4)，小径支撑台(3)内边缘距离底座(2)中心的距离小于大径支撑台(4)边缘距离底座(2)中心的距离，所述支撑组件高于底座(2)底面从而形成存水腔(5)。

2.根据权利要求1所述的基质培与水培一体的栽培装置，其特征在于：所述存水腔(5)延伸至围壁(1)，在围壁(1)上对齐小径支撑台(3)上表面的位置设置有连通存水腔(5)的第一排水孔(6)，所述第一排水孔(6)上可拆卸的装有第一封堵头。

3.根据权利要求2所述的基质培与水培一体的栽培装置，其特征在于：在围壁(1)上对齐大径支撑台(4)上表面的位置设置有连通存水腔(5)的第二排水孔(7)，所述第二排水孔(7)上可拆卸的装有第二封堵头。

4.根据权利要求1或2或3所述的基质培与水培一体的栽培装置，其特征在于：所述围壁(1)顶部比支撑组件的顶部高出1～3cm。

5.根据权利要求4所述的基质培与水培一体的栽培装置，其特征在于：所述围壁(1)顶端还环形阵列设置有4～8个支护(8)。

6.根据权利要求1或2或3所述的基质培与水培一体的栽培装置，其特征在于：所述围壁(1)上沿竖向接有水位观察管(9)，所述水位观察管(9)连通存水腔(5)。