[实用新型]一种干膜曝光对位装置有效

专利信息
申请号: 201721817732.5 申请日: 2017-12-22
公开(公告)号: CN207571464U 公开(公告)日: 2018-07-03
发明(设计)人: 丁兰燕;钱如山 申请(专利权)人: 常州宇宙星电子制造有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 广州市红荔专利代理有限公司 44214 代理人: 黄国勇
地址: 213000 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 干膜 固定座 螺纹孔 滑槽 孔洞 曝光对位装置 本实用新型 曝光 电路板生产 倒T形结构 辅助设备 曝光对位 制作方便 滑动 拐角处 螺纹杆 平行 侧面
【说明书】:

实用新型涉及电路板生产辅助设备技术领域,尤其是一种干膜曝光对位装置,包括固定座,所述固定座上开设有两个相互平行的滑槽,且滑槽的横截面呈倒T形结构,每个所述滑槽内均滑动设有两个曝光钉,所述固定座上设有下干膜和上干膜,所述下干膜和上干膜的四个拐角处均开设有孔洞,且曝光钉设置在孔洞内,所述下干膜和上干膜之间的曝光钉一侧开设有第二凹槽,四个所述第二凹槽上共同卡和有PCB板,且PCB板设置在下干膜和上干膜之间,远离所述第二凹槽的侧面上开设有螺纹孔,且螺纹孔与第二凹槽相连通,所述螺纹孔内设有螺纹杆。本实用新型结构简单,制作方便,一人即可完成,方便对不同长度的干膜进行固定,并且能够提高干膜曝光对位的准确性。

技术领域

本实用新型涉及电路板生产辅助设备技术领域,尤其涉及一种干膜曝光对位装置。

背景技术

目前电路板行业中,干膜对位多采用手工对位方式,采用人工手对方式对准度差,易造成破孔、孔偏短路不良等问题,使产品品质不稳定,且采用人工手对方式时,操作人员只能凭眼力和经验进行判断,由于人员的差异,产品品质的一致性无法保证,并且每台曝光机至少需要三个人来完成作业,另外手动对位工具使用的是透光度和遮光度较差的棕菲林,使用寿命短,这些均增加了物料和人力的损耗,不利于降低生产成本,因此,业界迫切需要提供一种对位装置,来降低干膜曝光手工对位的操作难度,提高手工对位的效率。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种干膜曝光对位装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

设计一种干膜曝光对位装置,包括固定座,所述固定座上开设有两个相互平行的滑槽,且滑槽的横截面呈倒T形结构,每个所述滑槽内均滑动设有两个曝光钉,所述固定座上设有下干膜和上干膜,所述下干膜和上干膜的四个拐角处均开设有孔洞,且曝光钉设置在孔洞内,所述下干膜和上干膜之间的曝光钉一侧开设有第二凹槽,四个所述第二凹槽上共同卡和有PCB板,且PCB板设置在下干膜和上干膜之间,远离所述第二凹槽的侧面上开设有螺纹孔,且螺纹孔与第二凹槽相连通,所述螺纹孔内设有螺纹杆,所述曝光钉远离滑槽的一端螺纹连接有圆管,所述圆管内设有多个LED灯,所述LED灯下方的曝光钉开设有第一凹槽,所述第一凹槽内设有纽扣电池,所述LED灯通过导线连接纽扣电池。

优选的,所述螺纹杆远离PCB板的一端固定设有手捏片,所述手捏片呈蝴蝶形状。

优选的,其中一个所述滑槽一侧的固定座上设有刻度条。

优选的,所述下干膜和上干膜均为黑菲林。

优选的,所述曝光钉在滑槽的表面上涂有耐磨层,所述耐磨层为氧化硅制成。

本实用新型提出的一种干膜曝光对位装置,有益效果在于:曝光钉能够在滑槽内滑动,根据刻度条来准确的调节两个曝光钉之间的距离,进而来固定下干膜,曝光钉顶部设置的LED灯能够发光来方便工作人员准确卡和下干膜,再通过第二凹槽和螺纹杆来对PCB板进行微调,提前调整好下干膜和PCB板的位置,下膜片即可快速准确的进行卡和。本实用新型结构简单,制作方便,一人即可完成,方便对不同长度的干膜进行固定,并且能够提高干膜曝光对位的准确性。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种干膜曝光对位装置的结构示意图;

图2为本实用新型提出的一种干膜曝光对位装置的曝光钉正视图;

图3为本实用新型提出的一种干膜曝光对位装置的俯视图。

图中:固定座1、滑槽2、曝光钉3、下干膜4、PCB板5、上干膜6、第一凹槽7、圆管8、纽扣电池9、LED灯10、螺纹杆11、手捏片12、第二凹槽13、刻度条14。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州宇宙星电子制造有限公司,未经常州宇宙星电子制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721817732.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top