[实用新型]一种便于对位的FPC菲林有效
申请号: | 201721817699.6 | 申请日: | 2017-12-22 |
公开(公告)号: | CN207571463U | 公开(公告)日: | 2018-07-03 |
发明(设计)人: | 丁兰燕;钱如山 | 申请(专利权)人: | 常州宇宙星电子制造有限公司 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42 |
代理公司: | 广州市红荔专利代理有限公司 44214 | 代理人: | 黄国勇 |
地址: | 213000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 正面菲林 定位孔 菲林片 背面 对位 本实用新型 菲林 竖直 标示 线条 两边 水平方向间隔 柔性线路板 方向间隔 连接机构 生产技术 竖直放置 正方形孔 | ||
本实用新型涉及柔性线路板生产技术领域,尤其是一种便于对位的FPC菲林,包括正面菲林片和背面菲林片,所述正面菲林片和背面菲林片的形状与结构均相同,所述正面菲林片和背面菲林片的一侧通过连接机构连接,且正面菲林片和背面菲林片的四角均开设有位置相对应的定位孔,所述定位孔设置为正方形孔,且每个定位孔水平方向上的外侧两边均沿着水平方向间隔设置有多个竖直放置的第一标示线条,每个定位孔竖直方向上的外侧两边均沿着竖直方向间隔设置有多个水平放置的第二标示线条。本实用新型具有结构简单、使用方便以及便于操作的优点,不仅可提高定位的精确性,并且也可在对位出现误差时查看误差的大小。
技术领域
本实用新型涉及柔性电路板生产技术领域,尤其涉及一种便于对位的FPC菲林。
背景技术
在(FPC)柔性线路板制造过程中,曝光前需要对(FPC)柔性线路板与菲林进行对位,然后将对位完成的(FPC)柔性线路板与菲林放入曝光机进行曝光。在常见的FPC制作过程中,菲林对位由人工执行,对位误差不易管控。部分客户对FPC正反两面线路相对位置要求较严格,常用菲林对位方法无法满足客户要求。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的现有技术中的人工对菲林进行对位的方式误差不易掌控的缺点,而提出的一种便于对位的FPC菲林。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
设计一种便于对位的FPC菲林,包括正面菲林片和背面菲林片,所述正面菲林片和背面菲林片的形状与结构均相同,所述正面菲林片和背面菲林片的一侧通过连接机构连接,且正面菲林片和背面菲林片的四角均开设有位置相对应的定位孔,所述定位孔设置为正方形孔,且每个定位孔水平方向上的外侧两边均沿着水平方向间隔设置有多个竖直放置的第一标示线条,每个定位孔竖直方向上的外侧两边均沿着竖直方向间隔设置有多个水平放置的第二标示线条,所述定位孔的四个内壁上均设置有辅助定位机构。
优选的,所述连接机构包括连接支撑条,所述连接支撑条的两侧均分别通过连接软条与正面菲林片以及背面菲林片连接。
优选的,多个所述第一标示线条之间以及多个第二标示线条之间均为等距离设置。
优选的,所述辅助定位机构包括开设在定位孔内壁上的凹槽,所述凹槽内设置有指示针。
本实用新型提出的一种便于对位的FPC菲林,有益效果在于:本实用新型具有结构简单、使用方便以及便于操作的优点,不仅可提高定位的精确性,并且也可在对位出现误差时查看误差的大小,便于使用。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种便于对位的FPC菲林的正面展开结构示意图;
图2为图1中的A部结构示意图;
图3为本实用新型提出的一种便于对位的FPC菲林的侧视图。
图中:正面菲林片1、背面菲林片2、连接机构3、连接支撑条4、连接软条5、定位孔6、第一标示线条7、第二标示线条8、凹槽9、指示针10。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-3,一种便于对位的FPC菲林,包括正面菲林片1和背面菲林片2,正面菲林片1和背面菲林片2的形状与结构均相同,正面菲林片1和背面菲林片2的一侧通过连接机构3连接,连接机构3包括连接支撑条4,连接支撑条4的两侧均分别通过连接软条5与正面菲林片1以及背面菲林片2连接,在实际使用时,连接支撑条4的宽度设置为与印制板的厚度相同,在使用时将印制板放置在正面菲林片1与背面菲林片2之间,正面菲林片1、背面菲林片2与连接机构3形成翻折结构,便于菲林片与印制板之间的快速定位。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备