[实用新型]一种用于太赫兹波透射成像的组织标本盒有效
申请号: | 201721810924.3 | 申请日: | 2017-12-22 |
公开(公告)号: | CN207300863U | 公开(公告)日: | 2018-05-01 |
发明(设计)人: | 赵恒立;陈图南;王与烨;冯华 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军陆军军医大学第一附属医院 |
主分类号: | G01N21/03 | 分类号: | G01N21/03 |
代理公司: | 北京同恒源知识产权代理有限公司11275 | 代理人: | 赵荣之 |
地址: | 400038 重*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 赫兹 透射 成像 组织 标本 | ||
技术领域
本实用新型属于电磁波成像技术领域,具体涉及一种用于太赫兹波透射成像的组织标本盒。
背景技术
太赫兹(Terahertz,THz),在电磁波谱中位于微波和远红外辐射之间,其频率范围为0.1~10THz,是宏观电子学向微观光子学过渡的频段,未充分的研究和应用,被称为“太赫兹空隙”,作为太赫兹波技术的主要应用方向,对组织的成像研究方兴未艾,不少研究机构纷纷开展了高功率集成化太赫兹波成像光源、高分辨高灵敏度探测器以及太赫兹波谱对脑结构敏感性和分辨率的研究,但目前尚没有针对组织太赫兹波谱成像的组织标本盒。目前通常的做法是将组织标本直接置于普通玻片上进行太赫兹成像,有如下的缺陷:①标本组织常温下裸露放置会发生变性以及组织脱水等情况,引起太赫兹成像不稳定;②标本组织需要使用到多个切片,并依次成像不同切片样品来达到连续太赫兹波透射成像的三维重建,如脑创伤切片,以显示脑外伤的损伤范围,但多次的透射成像过程存在操作繁琐、费时且切片成像顺序易混淆。
实用新型内容
有鉴于此,本发明的目的是解决上述技术问题,提供一种用于太赫兹波透射成像的组织标本盒,辅助实验者在太赫兹波透射成像中降低因切片保藏力度不够、操作繁琐、顺序易乱而带来的三维重建误差。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的:
本实用新型提供的一种用于太赫兹波透射成像的组织标本盒,包括盒体和盒盖,所述盒体和盒盖采用透光材料,且盒体与盒盖密封连接,所述盒体的底部中央设有可转动的基座,所述盒体面向盒盖的对应面上设有用于置放组织标本的容置凹槽,所述容置凹槽为多个,沿盒体的径向均匀间隔布置。
进一步,所述容置凹槽为6~20个。
进一步,多个容置凹槽依次设置有数字标识。
进一步,所述盒盖上设有用于检测盒体与盒盖间密封空间温度的温度计以及用于向盒体与盒盖间密封空间充入冷源的充气孔,所述冷源为氮气。
进一步,所述盒体和盒盖具有空腔,其上分别设有向该空腔导入低温流体的进出口,所述低温流体为压缩空气或冷却水。
进一步,还包括固定于容置凹槽上的载玻片,所述组织标本被两块载玻片夹持,且组织标本周围被油酸封闭。
进一步,所述透光材料和载玻片采用阻值大于10000Ω的双抛高阻硅片。
进一步,所述基座通过单向轴承连接于盒体上。
进一步,所述盒盖上设有可转动的调孔弧板,所述调孔弧板上设有多个孔径依次递增的通孔。
本实用新型的有益效果在于:本实用新型组织标本盒具有结构简单、使用方便的特点,不仅能够保证组织标本较长时间成像的稳定性,还能减少对需要多次成像的切片组织标本实施一次性装载并连续、有序的成像,有助于辅助实验者的减轻繁琐性操作和控制排序成像混淆等带来的误差,获得良好的实验效果。
本实用新型的其他优点、目标和特征在某种程度上将在随后的说明书中进行阐述,并且在某种程度上,基于对下文的考察研究对本领域技术人员而言将是显而易见的,或者可以从本实用新型的实践中得到教导。本实用新型的目标和其他优点可以通过下面的说明书来实现和获得。
附图说明
为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型作进一步的详细描述,其中:
图1是本实用新型组织标本盒的平面透射图。
具体实施方式
以下将结合附图,对本实用新型的优选实施例进行详细的描述;应当理解,优选实施例仅为了说明本实用新型,而不是为了限制本实用新型的保护范围。
说明书附图中的附图标记包括:盒体1、盒盖2、基座3、容置凹槽4、温度计5、充气孔6、组织标本7、调节弧板8、通孔9。
实施例基本如附图1所示:本实施例中的用于太赫兹波透射成像的组织标本盒,包括密封连接在一起的盒体1和盒盖2,且盒体1和盒盖2采用透光材料,盒体1的底部中央设有可转动的基座3,方便实验者在盒盖扣盖于盒体上后可通过基座自由转动盒体和盒盖,盒体1面向盒盖2的对应面上设有用于置放组织标本的容置凹槽4,容置凹槽4为多个,沿盒体1的径向均匀间隔布置,多个容置凹槽4依次设置有数字标识(未画出),盒盖2上设有用于检测盒体1与盒盖2间密封空间温度的温度计5以及用于向盒体1与盒盖2间密封空间充入冷源的充气孔6,所述冷源采用氮气。
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