[实用新型]一种存储芯片的预整平装置有效
申请号: | 201721806262.2 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN207542216U | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | 付业民;郭寂波 | 申请(专利权)人: | 深圳市劲升迪龙科技发展有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 谈杰 |
地址: | 518000 广东省深圳市福*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 容置槽 存储芯片 整平装置 上压板 通孔 加热板 下压板 支撑柱 凸块 本实用新型 拔模斜面 固定设置 人工成本 生产效率 液压气缸 整平加工 喷嘴 不良率 传统的 工作台 导通 减小 内壁 压板 整平 加热 加压 侧面 | ||
一种存储芯片的预整平装置,包括工作台、支撑柱和固定设置在工作台上的加热板,还包括固定连接在加热板顶部的下压板和设置在下压板正上方的上压板,所述下压板上设有容置槽和设置容置槽两侧的通孔,所述容置槽设有拔模斜面其底面的尺寸与产品的尺寸相同,所述通孔的一侧面与所述容置槽的一侧相导通,所述通孔的内壁上还设有朝向所述容置槽的喷嘴,所述支撑柱上设有带动所述上压板在垂直方向上运动的液压气缸,所述上压板的底部设有与所述容置槽相对应的凸块,本实用新型的一种存储芯片的预整平装置通过容置槽与凸块加压设计取代了传统的人工预整平加工,使产品进行加热预整平,降低人工成本,大大提高了产品的生产效率,减小了产品的不良率。
技术领域
本实用新型涉及存储芯片技术加工领域,特别是涉及一种存储芯片的预整平装置。
背景技术
传统的存储芯片产品模压成型后,在经过自然冷却会出现翘曲现象,严重影响后续产品的加工,从而需要进行产品的平整,一般是通过将产品放置到烤箱烘烤,进行受热,然后通过人工利用平板或者铁块在产品的一面进行施加压力,使产品保持平整,但是在该过程中易造成产品内部打线不良,并且耗时,质量难以保证,同时经过多次人工的取放会在产品表面出现脏污,降低产品质量,人力成本较高,降低了生产效率。
然而,现有的市场上存在通过平板预热并进行整平的装置,通过将底部的平板进行加热,再通过顶部的平板进行下压,从而达到预整平的目的,但是该方法的保压效果差、产品受到压力会产生变形并且稳定性不高,因此被多用于在一些贴片工艺上。
实用新型内容
本实用新型的目的是克服现有技术中的不足之处,提供一种结构简单,方便上下料和提高生产效率的存储芯片的预整平装置。
为解决上述技术问题,本实用新型通过下述技术方案来解决:
一种存储芯片的预整平装置,包括工作台、支撑柱和固定设置在工作台上的加热板,还包括固定连接在加热板顶部的下压板和设置在下压板正上方的上压板,所述下压板上设有容置槽和设置容置槽两侧的通孔,所述容置槽开口处设有拔模斜面其底面的尺寸与产品的尺寸相同,所述通孔的一侧面与所述容置槽的一侧相导通,所述通孔的内壁上还设有朝向所述容置槽的喷嘴,所述支撑柱上设有带动所述上压板在垂直方向上运动的液压气缸,所述上压板的底部设有与所述容置槽相对应的凸块。
具体的,所述下压板的上表面设有定位孔,所述上压板的下表面还设有伸入所述定位孔内部的定位销。
具体的,所述工作台的内部还设有与所述加热板相连接的温度控制装置。
具体的,所述下压板和所述加热板上均设有四个垂直方向一致的螺丝定位孔。
本实用新型相比现有技术具有以下优点及有益效果:
本实用新型的一种存储芯片的预整平装置通过容置槽与凸块加压设计取代了传统的人工预整平加工,使产品进行加热预整平,降低人工成本,大大提高了产品的生产效率,减小了产品的不良率,通过对容置槽的拔模斜面设置,更加便于产品放置在容置槽的内部,提高了产品的摆放速度,通过设置通孔,在人工取放料时使手的位置更加合理,既方便了摆放产品,又防止下压板的温度过高将人的手烫伤,降低了生产过程中的安全隐患,结构简单,适用性广泛,同时在喷嘴的内部设置喷嘴,一方面在生产加工过程中吹向容置槽的表面,使其容置槽的表面始终干净,出现异物而导致产品的压伤,另一方面在加工完成时,防止上压板与产品之间形成粘附,导致产品掉落,从而影响产品的质量与生产的安全性。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
图1为本实用新型一种存储芯片的预整平装置的主视图。
图2为本实用新型一种存储芯片的预整平装置的下压板的俯视图。
图3为本实用新型一种存储芯片的预整平装置的下压板的左视图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造