[实用新型]用于浸没式光刻具有自动除菌功能的超纯水制备装置

权利要求书

1.用于浸没式光刻具有自动除菌功能的超纯水制备装置，包括电子级厂务水水箱、纯水泵、流量控制计、自清洗温控单向阀、自清洗温控模块、紫外灯去总有机碳模块、脱氧模块、其他杂质去除模块、检测模块隔膜阀、检测模块、排水隔膜阀、用水隔膜阀、回水流量计和止回阀；其特征在于：

所述的电子级厂务水水箱上设置有第一入水口，电子级厂务水水箱出水口接纯水泵的入水口，纯水泵出水口接流量控制计的入水口；流量控制计出水口接紫外灯去总有机碳模块的入水口，紫外灯去总有机碳模块的出水口接脱气模块的入水口，脱气模块的出水口接其他杂质处理模块的入水口；其他杂质处理模块的出水口分为两路：一路通过检测模块隔膜阀接其他杂质去除模块的入水口；另一路与排水隔膜阀的入水口、用水隔膜阀的入水口连接后接回水流量计的入水口；其他杂质去除模块的出水口接排水隔膜阀的出水口后作为排水口；回水流量计的出水口通过止回阀接在流量控制计的出水口与总有机碳去除模块的入水口之间；用水隔膜阀的出水口作为用水口；自清洗温控模块通过自清洗温控单向阀接在流量控制计的出水口与总有机碳去除模块的入水口之间；自清洗温控模块上设置有第二入水口；

纯水泵用于控制进水压力和流速，自清洗温控模块用于对装置内管路及器件进行灭菌处理；回水流量计用于控制回水流量，止回阀防止回水倒流；紫外灯去总有机碳模块用于对超纯水中的总有机碳和一些细菌进行去除；脱氧模块用于去除超纯水中残余的臭氧和紫外灯去总有机碳模块产生的二氧化碳，防止杂质引入后级模块；通过其他杂质处理模块对其他杂质进行去除，检测模块对水质进行实时的监控。

2.如权利要求1所述的用于浸没式光刻具有自动除菌功能的超纯水制备装置，其特征在于：采用自清洗温控模块对水温进行调控，以每分钟2-3℃的增温梯度来缓慢加热28℃超纯水直至达到80-85℃，之后在装置内循环80-85℃热超纯水30-60分钟，对装置内管道和其他过滤器膜进行杀菌处理，之后以每分钟2-3℃的降温梯度23缓慢冷却超纯水至28℃，在水温恢复28℃后，预备供水10分钟。

3.如权利要求1所述的用于浸没式光刻具有自动除菌功能的超纯水制备装置，其特征在于：所述的紫外灯去总有机碳模块包括臭氧源，多个紫外灯，多个流量控制器以及隔膜阀。

4.如权利要求1所述的用于浸没式光刻具有自动除菌功能的超纯水制备装置，其特征在于：所述的脱气模块包括氮气接入源、多个电磁电磁阀、气体压力控制器以及脱气膜。

5.如权利要求1所述的用于浸没式光刻具有自动除菌功能的超纯水制备装置，其特征在于：所述的其他杂质去除模块包括去离子混床、去硅单床和终端过滤。

6.如权利要求1所述的用于浸没式光刻具有自动除菌功能的超纯水制备装置，其特征在于：所述的杂质检测模块包括总有机碳表、臭氧表、电阻率表。