[实用新型]负压真空机组汽水分离器

说明书

本实用新型涉及一种负压真空机组汽水分离器，组成中包括本体、排气口、进水口、下排污口、接真空泵进水口、真空泵排放口，安装在本体上端的斜挡板将本体分割成两部分，上部分为沉淀腔，内有排气口和真空泵排放口，本体内安有沉淀槽，斜挡板的下端边距本体的距离比沉淀槽的宽度小；本体上有上排污口，上排污口与沉淀槽相连，上排污口外管道上安有电磁阀，该结构保证汽水分离器内不断水，保证真空泵的正常使用，具有两次排污、循环利用水源的优点。

技术领域

本实用新型属于吸引系统领域，尤其涉及一种使用在水环真空泵组设备中的负压真空机组汽水分离器。

背景技术

目前，在水环真空泵组设备中的汽水分离器，是将真空泵中水汽分离出来，市场上使用汽水分离器，沉淀物只能从汽水分离器的底部排出，水不能很好地循环利用，浪费水源。

实用新型内容

本实用新型目的是公开两次排污、循环利用水源的负压真空机组汽水分离器。

采用以下技术方案实现上述目的：

负压真空机组汽水分离器，组成中包括本体、排气口、进水口、下排污口、接真空泵进水口、真空泵排放口，安装在本体上端的斜挡板将本体分割成两部分，上部分为沉淀腔，内有排气口和真空泵排放口，本体内安有沉淀槽，斜挡板的下端边距本体的距离比沉淀槽的宽度小；本体上有上排污口，上排污口与沉淀槽相连，上排污口外管道上安有电磁阀。

上述的负压真空机组汽水分离器，本体上安装有上水位传感器和下水位传感器，上水位传感器和下水位传感器与数控相连。

上述的负压真空机组汽水分离器，上水位传感器在本体上安装位置在沉淀槽的最高点和最低点之间的位置。

采用本结构的汽水分离器，无论是从真空泵排放口排出的水汽还是从进水口排出的水都先进入沉淀腔，这样所有的气体都从排气口排出，所有的液体或沉淀物通过斜挡板进入沉淀槽，沉淀槽的污物或杂质通过电磁阀定时排出，沉淀槽内的水满后溢出，进入储水区，水位传感器监测水位的变化，当水位低于下水位线时，通过数控，打开电磁阀加入水，当水到达上水位时，数控电磁阀关闭，这样循环使用，保证汽水分离器不断水，保证真空泵的正常使用，下排污口将再次沉淀后的沉淀物排出。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

参照图1，包括本体1、排气口2、进水口3、下排污口4、接真空泵进水口5、真空泵排放口6，在本体1内安装的斜挡板7，将本体1分割成两部分，上部分为沉淀腔16，内有排气口2和真空泵排放口6，本体1内有沉淀槽8，斜挡板7的下端边距本体1的距离比沉淀槽8的宽度小；本体1上有上排污口9，上排污口9与沉淀槽8相连，上排污口9外管道上安有电磁阀17。本体1上安装有上水位传感器10和下水位传感器11，上水位传感器10和下水位传感器11与数控相连。上水位传感器11在本体1上安装位置在沉淀槽8的最高点和最低点之间的位置。考克上口14和考克下口15是人工观测上水位和下水位的观测口。从真空泵排放口6排出的水汽和进水口3排出的水都先进入沉淀腔，这样所有的气体都从排气口2排出，所有的液体或沉淀物通过斜挡板7进入沉淀槽8，沉淀槽8的污物或杂质通过电磁阀17定时排出，沉淀槽8内的水满后溢出，进入储水区18，水位传感器监测水位的变化，当水位低于下水位线13时，通过数控，打开电磁阀加入水，当水到达上水位12时，数控电磁阀关闭，这样循环使用，保证汽水分离器内不断水，保证真空泵的正常使用，下排污口4将再次沉淀后的沉淀物排出。