[实用新型]一种带有分布器的氧化反应釜

权利要求书

1.一种带有分布器的氧化反应釜，包括反应釜体（10）、空压机（7）、搅拌电机（6）、分布器（13）、液面高度传感器（21）、蒸汽盘管（20）、进液管（1）、进料口（8）、出料口（17）和底座（15），其特征在于：所述反应釜体（10）的顶部固定设有搅拌电机（6）和进料口（8），所述搅拌电机（6）的下方设有搅拌轴（9），所述搅拌轴（9）顶部固定设有搅拌叶（14），所述搅拌轴（9）和搅拌叶（14）位于反应釜体（10）内，所述搅拌轴（9）与搅拌电机（6）的输出端连接，所述搅拌电机（6）和进料口（8）之间固定设有空压机（7），所述空压机（7）的工作端位于反应釜体（10）内，所述反应釜体（10）顶部一侧固定设有进液管（1），所述进液管（1）一侧连接液泵（2），所述液泵（2）输水端连接反应釜体（10），所述搅拌叶（14）的外围固定设有分布器（13），所述进液管（1）通过管道（22）与分布器（13）连接，所述反应釜体（10）的外围固定设有蒸汽盘管（20），所述反应釜体（10）的底部固定设有底座（15），所述底座（15）之间固定设有出料口（17），所述出料口（17）位于反应釜体（10）的底部。

2.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于：所述反应釜体（10）内的顶部固定设有液面高度传感器（21）。

3.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于：所述反应釜体（10）顶部一侧固定设有压力表（3），所述压力表（3）与搅拌电机（6）之间固定设有泄压阀（4）。

4.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于：所述搅拌电机（6）的外围固定设有消音棉（5），所述底座（15）底部固定设有防震软垫（16），所述分布器（13）的表面设有出液孔（12）。

5.根据权利要求1所述的一种带有分布器的氧化反应釜，其特征在于：所述蒸汽盘管（20）的顶端固定设有蒸汽出口（18），所述蒸汽盘管（20）的底端固定设有蒸汽进口（19）。