[实用新型]一种蓝灰镀膜玻璃的镀膜器结构有效
申请号: | 201721763068.0 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN207659524U | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 訚清;袁丽娜;刘柏辉;张建辉;赵海东;周红;吴信军;何成;肖辉斌;张广起;李强勇 | 申请(专利权)人: | 长兴旗滨玻璃有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 王江成 |
地址: | 313102 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 进气槽 镀膜器 石墨柱 排气槽 本实用新型 镀膜玻璃 交错排列 相对侧面 反应器 镀膜机 进气调节阀 排气调节阀 不易变形 锥形喷嘴 石墨 导圆 腔内 锡槽 下端 组装 上游 改进 | ||
本实用新型涉及一种蓝灰镀膜玻璃的镀膜器结构,包括安装在锡槽腔内的镀膜机反应器,所述镀膜机反应器包括由上游石墨柱与中游石墨柱构成的进气槽以及由中游石墨柱与下游石墨柱构成的排气槽,所述进气槽顶端设有进气调节阀,所述排气槽顶端设有排气调节阀,在进气槽的下端设有锥形喷嘴,在进气槽的两相对侧面上设有若干交错排列的导镀片,在排气槽的两相对侧面上设有若干交错排列的导镀片;进气槽的末端进行导圆处理。本实用新型在镀膜器结构上进行设计与改进,镀膜器的上、中、下石墨由于长度达3800mm,从而容易固定,不易变形,组装精度高。
技术领域
本实用新型涉及一种镀膜器结构,尤其涉及一种解决难固定、易变形、组装精度低等难题,提高了产品的产质量的蓝灰镀膜玻璃的镀膜器结构。
背景技术
玻璃作为日常建筑材料,随着社会的发展,人们对其要求日益高涨。除了普通玻璃,许多高科技含量的玻璃产品也纷纷现身于日常生活中。各种色泽的玻璃产品也在不断满足着设计师灵感的需求,兼具色泽与功能的玻璃产品也是需要通过厂家的不断研发而产生。
在现有技术中,蓝色玻璃与灰色玻璃一直来都是经典的玻璃色泽,其镀膜产品也是深受大众所喜爱。介于蓝色与灰色的玻璃具有两者的典雅与美观,而其镀膜玻璃,更是具有功能性的效果。镀膜玻璃产品都是通过在线镀膜或是离线镀膜的方式来完成。在线镀膜玻璃由于具有可大批量生产的特点,使其成本降低,并易于市场的推广;离线镀膜玻璃则是由于可以通过多膜层的镀制,并且在生产中易于控制镀膜厚度等参数效果。运用在线镀膜工艺生产镀膜玻璃由于其大批量的生产,而使得控制工艺等要求具有很大的难度。浮法玻璃生产线利用本体着色玻璃进行膜层镀制时,不仅需要对其本体着色玻璃配方加以研究,同时需要配合熔化等浮法控制工艺、膜层以及膜层控制工艺进行研究生产。
而现有的镀膜器结构最初采用四块分块组装的形式,导致结合点易产生色道、色差的问题,经常出现难固定、易变形、组装精度低等难题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于为了解决现有的镀膜器结构最初采用四块分块组装的形式,导致结合点易产生色道、色差的问题,经常出现难固定、易变形、组装精度低的缺陷而提供一种容易固定,不易变形,组装精度高的提高了产品的产质量的蓝灰镀膜玻璃的镀膜器结构。
为了实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:
一种蓝灰镀膜玻璃的镀膜器结构,包括安装在锡槽腔内的镀膜机反应器,所述镀膜机反应器包括由上游石墨柱与中游石墨柱构成的进气槽以及由中游石墨柱与下游石墨柱构成的排气槽,所述进气槽顶端设有进气调节阀,所述排气槽顶端设有排气调节阀,在进气槽的下端设有锥形喷嘴,在进气槽的两相对侧面上设有若干交错排列的导镀片,在排气槽的两相对侧面上设有若干交错排列的导镀片;进气槽的末端进行导圆处理。在本技术方案中,进气槽通入反应混合气进入流道,促进化学先驱气体扩散和反应沉积,废气流道排出反应废气,并通过引流压力调节控制排气压力,根据流体力学分析,不同的出气口具有不同的落差损失系数和气流状态。进入式出气口的损失系数最大,接近于1;导圆出气口的损失系数最小,可达0.04;尖锐边缘出气口的损失系数为0.61。可见,对出气口进行导圆处理后将有利于气体流场的均匀,提高沉积厚度和微观结构的均匀性和稳定性。导圆半径越大越有利于流场的均匀,从而提高了膜层均匀性。
作为优选,所述进气槽和排气槽与玻璃基板的前进方向垂直。
作为优选,所述上游石墨柱、中游石墨柱与下游石墨柱的长度均为3800mm。
作为优选,位于进气槽的最顶端的导镀片与进气槽的进气口的距离为50-80mm,位于排气槽最顶端的导镀片与排气槽的排气口的距离为450-500mm。
作为优选,镀膜机反应器与玻璃基材之间设有与玻璃基材平行的冷却层。
作为优选,各导镀片在竖直方向上的距离为300mm。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的