[实用新型]一种浸入式流体分析设备

说明书

本实用新型提供了一种浸入式流体分析设备，属于气体或者液体污染检测技术领域。它解决了现有的浸入式流体分析设备在水中镜片被污染难以清洗的问题。本装置包括第一腔体，第二腔体，测量池，位于测量池两侧的第一光学镜片和第二光学镜片，以及清扫装置，清扫装置包括电机，电机的动力输出端上传动连接有转轴，转轴上套接有摆臂，摆臂的端部在电机的驱动下可选择性的伸入到测量池内刮擦第一光学镜片和第二光学镜片。本实用新型具有结构简单，除污效果好的优点。

技术领域

本实用新型属于气体或者液体的分析，尤其涉及一种浸入式流体分析设备。

背景技术

浸入式流体分析设备是一种检测水质成分的设备，其检测的方法为：将设备沉入到水中，待测水流入到测量池内，检测光源发出检测光，检测光穿过测量池内的水打入到光电检测模块进行检测。但是在水质污染较为严重的水域，测量池两侧的光学镜片经常被污染，导致检测结果产生误差。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种可以有效清除光学镜片上杂质的浸入式流体分析设备。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：

一种浸入式流体分析设备，包括：

第一腔体，所述第一腔体内置有光源，所述光源用于发出检测光；

第二腔体，与所述第一腔体间隔设置，所述第二腔体内置有光电检测模块，所述光电检测模块位于检测光光路上并接收处理检测光；

测量池，所述第一腔体和第二腔体之间的间隔构成所述测量池；

第一光学镜片，位于检测光光路上，紧贴在第一腔体的一端，用于使第一腔体和测量池密封；

第二光学镜片，位于检测光光路上，紧贴在第二腔体的一端，用于使第二腔体和测量池密封；

清扫装置，用于去除吸附在第一光学镜片和第二光学镜片表面的杂质，所述清扫装置包括电机，所述电机的动力输出端上传动连接有转轴，所述转轴上套接有摆臂，所述摆臂的端部在电机的驱动下可选择性的伸入到测量池内刮擦第一光学镜片和第二光学镜片。

作为优选，所述摆臂伸入测量池的端部上设置有刮刀。

作为优选，所述摆臂上设置有卡槽，所述卡槽的槽壁上设置凹口，所述刮刀上设置有与凹口对应设置的凸起，所述刮刀插接在所述卡槽内且所述凸起容纳在所述凹口内。

作为优选，还包括密封盒，所述电机设置在密封盒内，转轴的一端伸出所述密封盒。

作为优选，所述转轴伸出密封盒的一端上设置有油封。

作为优选，所述密封盒固定设置在第一腔体上或第二腔体上。

作为优选，所述转轴带动摆臂作来回摆动动作。

作为优选，所述转轴带动摆臂作圆周摆动。

本实用新型设置了清扫装置，清扫装置包括电机和由电机控制摆动的摆臂，摆臂摆动时，摆臂的摆动路径经过测量池，摆臂的端部上设置有刮刀，摆臂摆动时，刮刀刮擦测量池两侧的光线镜片，使镜片保持洁净，能够有效保障检测结果的准确性。

附图说明

图1是本实用新型的立体结构图；

图2是本实用新型的内部结构图；

图3是本实用新型中摆臂的结构图。

图中，1、第一腔体；2、第二腔体；3、密封盒；4、油封；5、第一光学镜片；6、摆臂；7、第二光学镜片；8、电机；9、光源；10、光电检测模块；11、刮刀；12、卡槽。

具体实施方式