[实用新型]减反射膜和减反射玻璃有效

专利信息
申请号: 201721736019.8 申请日: 2017-12-13
公开(公告)号: CN208069029U 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: 谭小安;吕宜超 申请(专利权)人: 中国南玻集团股份有限公司
主分类号: B32B9/00 分类号: B32B9/00;B32B9/04;B32B17/06;B32B33/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 生启
地址: 518051 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 减反射膜 高折射率层 低折射率层 减反射玻璃 防尘层 本实用新型 依次层叠 防尘
【权利要求书】:

1.一种减反射膜,其特征在于,包括依次层叠的第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层及第二低折射率层,其中,所述第二高折射率层包括防尘层,所述防尘层选自ITO层、IZO层、AZO层及ATO层中的至少一层。

2.根据权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,所述第一高折射率层的折射率为2.0~2.5,所述第一低折射率层的折射率为1.47~1.53,所述第二高折射率层的折射率为2.0~2.5,所述第二低折射率层的折射率为1.47~1.53。

3.根据权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,所述防尘层的厚度为60nm~79nm;或

所述的第二高折射率层还包括层叠于所述第一低折射率层表面的折射率调整层,所述防尘层形成于所述折射率调整层的表面,所述折射率调整层选自氮化硅层、五氧化二铌层及二氧化钛层中的至少一层,所述防尘层的厚度为20nm~79nm,所述折射率调整层的厚度为40nm~100nm。

4.根据权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,所述第一高折射率层选自氮化硅层、五氧化二铌层及二氧化钛层中的至少一层;及/或

所述第一高折射率层的厚度为5nm~50nm。

5.根据权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,所述第一低折射率层为二氧化硅层;及/或

所述第一低折射率层的厚度为5nm~50nm。

6.根据权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,所述第二低折射率层为二氧化硅层;及/或

所述第二低折射率层的厚度为30nm~120nm。

7.根据权利要求1所述的减反射膜,其特征在于,还包括层叠于所述第二低折射率层表面的保护层。

8.根据权利要求7所述的减反射膜,其特征在于,所述保护层选自二氧化锆层、氮化硅层及碳化硅层中的至少一层。

9.一种减反射玻璃,其特征在于,包括:

玻璃基底;及

层叠于玻璃基底表面的权利要求1~8任一项所述的减反射膜。

10.根据权利要求9所述的减反射玻璃,其特征在于,所述玻璃基底的厚度为3mm~19mm;及/或

所述减反射玻璃为中性色玻璃。

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