[实用新型]一种无机纳米填料的制备设备

权利要求书

1.一种无机纳米填料的制备设备，包括设备主体(1)，其特征在于：所述设备主体(1)的内腔顶端设置有粉碎腔(2)，所述粉碎腔(2)的顶端一侧设置有进料口(3)，所述设备主体(1)的顶端中部固定安装有驱动电机(4)，所述驱动电机(4)的底部设置有传动杆(5)，所述传动杆(5)位于粉碎腔(2)的内腔中部，所述传动杆(5)的底端设置有固定板(6)，所述固定板(6)的中部设置有筛网(7)，所述筛网(7)的上方设置有粉碎板(8)，所述粉碎板(8)上方设置有第一粉碎刀(11)，所述第一粉碎刀(11)固定安装在传动杆(5)上，所述第一粉碎刀(11)的上方设置有第二粉碎刀(12)，所述第二粉碎刀(12)固定安装在套管(13)的底端外侧，所述套管(13)套接在传动杆(5)的外侧，所述套管(13)的顶端通过行星齿轮组(14)与传动杆(5)连接，所述行星齿轮组(14)安装在粉碎腔(2)的顶端侧壁上，所述固定板(6)的下方设置有导向板(16)，所述导向板(16)的底端中部设置有电磁阀(17)，所述导向板(16)的底端设置有隔热板(18)，所述隔热板(18)的下方设置有加热腔(19)，所述加热腔(19)的侧壁上设置有加热器(20)，所述加热腔(19)的底端中部设置有出料口(21)。

2.根据权利要求1所述的一种无机纳米填料的制备设备，其特征在于：所述粉碎板(8)的底端设置有凹槽(9)，所述凹槽(9)内设置有粉碎轮(10)，所述粉碎轮(10)的底端与筛网(7)的顶端贴合连接。

3.根据权利要求2所述的一种无机纳米填料的制备设备，其特征在于：所述粉碎板(8)上的凹槽(9)设置有多个，多个凹槽(9)呈环形阵列分布，且粉碎板(8)上设置有多个过滤网(81)，所述过滤网(81)位于相邻两个凹槽(9)之间。

4.根据权利要求1所述的一种无机纳米填料的制备设备，其特征在于：所述第一粉碎刀(11)与第二粉碎刀(12)贴合设置，且第一粉碎刀(11)与第二粉碎刀(12)反向转动。

5.根据权利要求1所述的一种无机纳米填料的制备设备，其特征在于：所述粉碎腔(2)的侧壁上设置有固定粉碎刀(15)，所述固定粉碎刀(15)设置有多组，每组设置有多个固定粉碎刀(15)，每组多个固定粉碎刀(15)呈环形阵列分布，且多组固定粉碎刀(15)呈垂直等间距分布。

6.根据权利要求1所述的一种无机纳米填料的制备设备，其特征在于：所述导向板(16)设置为环形结构，所述导向板(16)的中部设置有漏斗状凹口，所述电磁阀(17)位于凹口的底端。