[实用新型]气体混合装置以及包括该气体混合装置的CVD设备有效
| 申请号： | 201721663355.4 | 申请日： | 2017-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN207512257U | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 刘凤娟 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 张雪梅 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气体混合装置 混合管 混合腔 本实用新型 出口连接 螺旋结构 内壁 涡流 螺旋形结构 充分混合 管壁螺旋 混合气体 气体混合 行进过程 原料气体 导出管 均匀性 存储 行进 | ||
1.一种气体混合装置，其特征在于，包括：混合管、与混合管出口连接的混合腔、与混合腔出口连接的导出管，混合管的内壁为螺旋结构。
2.根据权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述混合管内壁包括多个弧形槽，每个弧形槽沿气流行进方向在混合管内壁螺旋设置。
3.根据权利要求2所述的气体混合装置，其特征在于，所述多个弧形槽平行设置。
4.根据权利要求2所述的气体混合装置，其特征在于，所述多个弧形槽沿混合管径向均布设置。
5.根据权利要求4所述的气体混合装置，其特征在于，所述弧形槽到混合管中心的最小内径与弧形槽到混合管中心的最大内径的比为1:1.05～1:1.5。
6.根据权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述混合腔为球形。
7.根据权利要求6所述的气体混合装置，其特征在于，所述混合管的直径小于所述球形混合腔的直径。
8.根据权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述混合管、混合腔同轴设置。
9.根据权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述混合管入口与合气管出口连接，所述合气管具有多个进气口。
10.根据权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述混合管的长度为0.2米～2米。
11.根据权利要求1所述的气体混合装置，其特征在于，所述混合管的直径与混合腔的直径比为1:2～1:20。
12.根据权利要求9所述的气体混合装置，其特征在于，所述合气管、混合管、混合腔及导出管均由防腐蚀材料制成。
13.一种CVD设备，包括如权利要求1-12任意一条所述的气体混合装置。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
