[实用新型]一种间隙控制装置、工件清洗设备及真空镀膜设备

说明书

一种间隙控制装置，包括遮挡板、转动环、驱动装置、第一齿轮及第二齿轮，所述遮挡板为一弧形板，其下端与转动环连接，所述转动环与第二齿轮平行且同轴设置，所述第二齿轮与第一齿轮啮合，第一齿轮固定于驱动装置的输出轴上。通过驱动装置驱动第一齿轮旋转，第一齿轮带动第二齿轮旋转，第二齿轮带动转动环转动，从而调节灯丝与基板之间的通道间隙，实现清洗或镀膜精度调节，可对不同精度要求的工件进行清洗或镀膜。本实用新型还提供了一种工件清洗设备及一种真空镀膜设备。

技术领域

本实用新型涉及材料制作领域，特别是一种间隙控制装置、工件清洗设备及真空镀膜设备。

背景技术

溅射法制作纳米材料的方式有：磁控溅射、偏压溅射及反应溅射等。其中磁控溅射的原理为：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子沉积在基片或工件上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动。

工件有时需要通过工件清洗设备利用高速电子进行清洗，另有一种真空镀膜设备。该工件清洗设备或真空镀膜设备通过灯丝发出电子到基板上，实现对基板上的工件进行清洗或镀膜。灯丝与基板之间的通道间隙较大，电子的移动速度较慢，在基板或工件上形成一定的集中效应，即基板或工件正面朝向灯丝的部分堆积的电子较多，在基板或工件的其他部分堆积较少，如此清洗不均匀或形成的镀膜的厚度不均匀，清洗或镀膜精度较低，只能对镀膜精度要求较低的工件进行镀膜。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供了一种清洗或镀膜精度可调、可对不同精度要求的工件进行清洗或镀膜的间隙控制装置、工件清洗设备及真空镀膜设备，以解决上述问题。

一种间隙控制装置，包括遮挡板、转动环、驱动装置、第一齿轮及第二齿轮，所述遮挡板为一弧形板，其下端与转动环连接，所述转动环与第二齿轮平行且同轴设置，所述第二齿轮与第一齿轮啮合，第一齿轮固定于驱动装置的输出轴上。

进一步地，所述转动环通过固定轴与第二齿轮同轴固定连接。

进一步地，所述驱动装置为电机或气缸。

进一步地，所述间隙控制装置还包括上固定块、下固定块及护板，所述护板为一弧形板，其上端通过上固定块与壳体的顶部固定连接，下端通过下固定块与壳体的底部固定连接。

本实用新型还提供一种工件清洗设备，具有上述的间隙控制装置，还包括壳体、基板、灯丝、上连接轴、下连接轴、上轴承及下轴承，所述灯丝、基板、转动环均位于壳体内，所述上连接轴穿过上轴承，所述上轴承穿过壳体的顶部，所述下连接轴穿过壳体的底部并与下轴承连接，所述灯丝连接于上连接轴与下连接轴之间，所述转动环转动套设于下连接轴的外侧，所述基板设置于壳体的顶部与壳体的底部之间，所述遮挡板呈弧形围绕灯丝设置。

进一步地，所述驱动装置设置于一固定板上，所述下轴承与固定板固定连接，所述固定板与壳体的底部连接。

进一步地，所述灯丝的上端通过上连接件与上连接轴连接，下端通过下连接件与下连接轴连接。

本实用新型还提供一种真空镀膜设备，具有上述的间隙控制装置，还包括壳体、基板、灯丝、上连接轴、下连接轴、上轴承及下轴承，所述灯丝、基板、转动环均位于壳体内，所述上连接轴穿过上轴承，所述上轴承穿过壳体的顶部，所述下连接轴穿过壳体的底部并与下轴承连接，所述灯丝连接于上连接轴与下连接轴之间，所述转动环转动套设于下连接轴的外侧，所述基板设置于壳体的顶部与壳体的底部之间，所述遮挡板呈弧形围绕灯丝设置。