[实用新型]一种盖板及电子设备有效

专利信息
申请号: 201721616206.2 申请日: 2017-11-28
公开(公告)号: CN207978218U 公开(公告)日: 2018-10-16
发明(设计)人: 尹凡华;杨鹏;周伟杰 申请(专利权)人: 信利光电股份有限公司
主分类号: H05K5/03 分类号: H05K5/03
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张春水;唐京桥
地址: 516600 广东省汕*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 薄膜层 基板 盖板 镀膜层 本实用新型 电子设备 硅薄膜 透光 阻挡 基板表面涂 可见光 内部零件 依次设置 可视性 折射率 电子产品 油墨 背离 覆盖 吸收
【权利要求书】:

1.一种盖板,其特征在于,包括:基板和镀膜层;

所述镀膜层覆盖于所述基板一侧表面;

所述镀膜层包括:第一薄膜层和第二薄膜层;

所述第一薄膜层和所述第二薄膜层沿背离所述基板的方向依次设置;

所述第一薄膜层和所述第二薄膜层具有不同的折射率;

所述第一薄膜层为硅薄膜;

所述第二薄膜层为多层膜结构;

所述多层膜结构包括:交叉层叠的多层第一薄膜和多层第二薄膜;

所述第一薄膜和所述第二薄膜具有不同的折射率。

2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述镀膜层覆盖于所述基板背向观察一侧的表面上。

3.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述第一薄膜的层数与所述第二薄膜的层数相同。

4.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述第一薄膜为氧化铌薄膜;

所述第二薄膜为氧化硅薄膜。

5.根据权利要求4所述的盖板,其特征在于,沿背离所述第一薄膜层的方向上,所述多层膜结构依次包括:10~60nm厚的氧化铌薄膜、60~160nm厚的氧化硅薄膜、70~150nm厚的氧化铌薄膜、80~200nm厚的氧化硅薄膜、30~90nm厚的氧化铌薄膜和30~100nm厚的氧化硅薄膜;

所述第一薄膜层的厚度为50~300nm。

6.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述基板为透明基板。

7.根据权利要求6所述的盖板,其特征在于,所述透明基板为玻璃基板、亚克力基板和聚碳酸酯基板中的一种。

8.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述基板的厚度为0.1~3.0mm。

9.一种电子设备,其特征在于,包括权利要求1至8任意一项所述的盖板。

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