[实用新型]化学机械研磨系统的基板装载装置

权利要求书

1.一种化学机械研磨系统的基板装载装置，其作为在化学机械研磨工艺中用于将基板装载至载体头的基板装载装置，载体头包括膜和卡圈，膜与基板接触，卡圈配置于所述膜的周围，所述化学机械研磨系统的基板装载装置的特征在于，包括：

放置架，其用于放置基板；

对齐部，其与卡圈的内面接触，并且使得所述卡圈相对于所述基板对齐至规定的对齐位置。

2.根据权利要求1所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，

所述对齐部与所述卡圈的内面相接触的同时配置于所述基板和所述卡圈之间。

3.根据权利要求2所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，

所述对齐部具有比所述基板的侧面和所述卡圈的内面之间的间距小的宽度，并且在所述基板和所述卡圈之间以与所述基板的侧面隔开的形式配置。

4.根据权利要求1所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，

所述对齐部形成为沿着所述卡圈的圆周方向连续的环形态。

5.根据权利要求1所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，

沿着所述卡圈的圆周方向隔开地设置多个所述对齐部。

6.根据权利要求1所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，

所述卡圈的棱角与所述对齐部的上端接触，并且在所述对齐部的上端形成有将所述卡圈引导至所述对齐位置的倾斜引导面。

7.根据权利要求1所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，

在所述对齐部形成有流体喷射部，流体喷射部将流体喷射至所述基板的上面。

8.根据权利要求7所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，

所述流体喷射部在所述基板装载至所述载体头之前将流体喷射至所述基板的上面。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，

所述放置架包括放置板，放置板用于支撑所述基板的底面，

所述对齐部凸出形成于所述放置板的上面。

10.根据权利要求9所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，

在所述放置板的上面形成有放置面和卡圈接触面，放置面与所述基板的底面相接触，卡圈接触面形成于比所述放置面低的高度并与所述卡圈的底面相接触。

11.根据权利要求1至8中任意一项所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特在于，所述放置架包括：

放置板，其以与所述基板的底面隔开的形式配置；

边缘放置部，其配置于所述放置板的上面，对所述基板的底面边缘进行支撑，

所述对齐部形成于所述边缘放置部。

12.根据权利要求11所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，包括：

弹性部件，其以能够上下移动的形式对所述边缘放置部进行弹性支撑。

13.根据权利要求1至8中任意一项所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特在于，所述放置架包括：

放置板，其用于支撑所述基板的底面；

卡圈放置部，其沿着所述放置板的半径方向配置于所述放置板的外侧，并且用于支撑所述卡圈的底面，

所述对齐部形成于所述卡圈放置部。

14.根据权利要求13所述的化学机械研磨系统的基板装载装置，其特征在于，包括：

弹性部件，其以能够上下移动的形式对所述卡圈放置部进行弹性支撑。