[实用新型]基站天线及其隔离片有效

专利信息
申请号: 201721573422.3 申请日: 2017-11-22
公开(公告)号: CN207559070U 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 岳彩龙;曹林利;吴中林;付聪;方铁勇;丁文;张理栋 申请(专利权)人: 广东通宇通讯股份有限公司
主分类号: H01Q1/52 分类号: H01Q1/52;H01Q19/10;H01Q21/00
代理公司: 深圳瑞天谨诚知识产权代理有限公司 44340 代理人: 王牌
地址: 528437 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 隔离片 平面部 本实用新型 基站天线 水平狭缝 谐振电场 金属隔离片 交错堆栈 入射电场 镂空 长条形 隔离度 天线 抵消 放大 加工
【说明书】:

实用新型公开了一种隔离片,所述隔离片是金属隔离片,所述隔离片具备呈长条形的第一平面部,沿着所述第一平面部的长度方向在所述第一平面部上加工形成有多个镂空的水平狭缝,各所述水平狭缝在水平面内交错堆栈排列。本实用新型还公开了一种基站天线。通过上述实施方式,该隔离片可以使谐振电场放大,使谐振电场与入射电场相互抵消,提高天线的隔离度。

技术领域

本实用新型涉及一种基站天线及其隔离片。

背景技术

轻量化、小型化和集成化是基站天线长期以来不变的技术发展方向。回顾基站天线发展的历史,从最初的单列-窄带-单频-单极化天线到多列-宽带-多频-双极化天线,以至于第五代移动通信即将广泛采用的三维拓扑大规模MIMO阵列天线,一方面阵列持续变大,阵元数量增加,另一方面高密度组网对波束成形和空间分集提出了更高的技术指标要求,这就使得阵元的排列必须更加紧凑,使基站天线尺寸不变甚至缩小的情况下能够容纳更多的天线单元,从而全面满足增益和方向图的各项指标要求。

目前,国内宏基站天线普遍采用高低频振子混合组阵技术,为了充分利用有限的内部空间以放置更多的阵列单元,高低频振子通常采用上下垂直放置的“共轴”组阵方式或者低频振子沿着反射板中轴线放置,高频振子排在两边的“肩并肩”组阵方式。对于双列或多列天线而言,列与列之间的电磁耦合会导致天线增益下降,水平波宽发散,波束歪斜、畸变,交叉极化鉴别率和前后比恶化等不良影响,因而相邻列之间去耦合也因此成为阵列天线设计的重点和难点。

实用新型内容

本实用新型为解决上述技术问题提供了一种基站天线及其隔离片,所述隔离片可以使谐振电场放大,使谐振电场与入射电场相互抵消,提高天线的隔离度。

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种隔离片,所述隔离片是金属隔离片,所述隔离片具备呈长条形的第一平面部,沿着所述第一平面部的长度方向在所述第一平面部上加工形成有多个镂空的水平狭缝,各所述水平狭缝在水平面内交错堆栈排列。

进一步地,沿着所述第一平面部的高度方向,多个所述水平狭缝在所述第一平面部内被配置为两行以上,相邻的行的所述水平狭缝交错排列时,上下相邻的两行的所述水平狭缝之间的至少部分所述水平狭缝在部分区域存在重叠关系。

进一步地,沿着所述第一平面部的高度方向,多个所述水平狭缝在所述第一平面部内被配置为三行以上,相间隔的行的所述水平狭缝在所述第一平面部的两端对齐。

进一步地,相邻的行的所述水平狭缝的数量被配置为相同;或者,相邻的行的所述水平狭缝的数量被配置为不同,相间隔的行的所述水平狭缝的数量被配置为相同。

进一步地,在所述第一平面部中相间隔的行的同一高度加工形成有长度短于所述水平狭缝的长度、宽度小于所述水平狭缝的宽度的镂空的矩形窗,所述矩形窗至少设置于所述第一平面部的侧边缘处。

进一步地,同一行的相邻所述水平缝隙的间距介于10mm~20mm;不同行的各所述水平缝隙的长度和宽度做相同设置,其长度介于30mm~50mm,其宽度介于5mm~10mm。

进一步地,所述隔离片还具备第二平面部,所述第一平面部与所述第二平面部构成“L”字形状;所述第二平面部底部可拆卸地装配有介质垫片。

为解决上述技术问题,本实用新型还提供了一种基站天线,包括:装配有天线阵列的反射板;所述反射板的侧边采用如上述任一项实施例所述的隔离片。

为解决上述技术问题,本实用新型还提供了一种基站天线,包括:装配有两列以上天线阵列的反射板;相邻列所述天线阵列之间装设有如上述一项实施例所述的隔离片。

进一步地,所述反射板的侧边采用如权利要求1~7任一项所述的隔离片。

本实用新型的基站天线及其隔离片,具有如下有益效果:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东通宇通讯股份有限公司,未经广东通宇通讯股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201721573422.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top