[实用新型]蚀刻设备

说明书

本实用新型公开一种蚀刻设备。蚀刻设备包括蚀刻腔体、电极板、第一支撑装置和设置在第一支撑装置之间的第二支撑装置。电极板、第一支撑装置和第二支撑装置位于蚀刻腔体内。第一支撑装置被配置成通过工件部分地放置在第一支撑装置上以使工件与电极板间隔设置。第二支撑装置被配置成支撑工件相对于电极板上升或下降。本实用新型实施方式的蚀刻设备中，第一支撑装置工件可以使得工件与电极板在蚀刻过程中间隔设置，工件下表面不容易或避免因电极板的静电吸附力影响而产生凸起印记(Emboss ink)，进而提高工件的良率。

技术领域

本实用新型涉及蚀刻技术领域，尤其涉及一种蚀刻设备。

背景技术

在相关技术的蚀刻设备中，在对玻璃基板进行干式蚀刻时，因玻璃基板受下部电极静电吸附力影响，玻璃基板的表面容易产生凸起印记(Emboss ink)，是纳米或微米级别的损伤，此印记在经过后续酸湿制程后会在玻璃基板的表面形成凸凹不平的结构，进而影响玻璃基板的良率。

实用新型内容

本实用新型实施方式提供一种蚀刻设备。

本实用新型实施方式的一种蚀刻设备包括蚀刻腔体、电极板、第一支撑装置和设置在所述第一支撑装置之间的第二支撑装置，所述电极板、所述第一支撑装置和所述第二支撑装置位于所述蚀刻腔体内，所述第一支撑装置被配置成通过将工件部分地放置在所述第一支撑装置上以使所述工件与所述电极板间隔设置，所述第二支撑装置被配置成支撑所述工件相对于所述电极板上升或下降。

本实用新型实施方式的蚀刻设备中设置第一支撑装置使工件与电极板间隔设置，工件在蚀刻过程中，下表面不容易或避免因电极板的静电吸附力影响而产生凸起印记(Emboss ink)，进而提高工件的良率。

在某些实施方式中，所述第一支撑装置包括间隔设置的至少两个支撑臂，所述支撑臂形成有台阶结构，所述台阶结构形成有支撑槽，两个所述支撑臂的所述支撑槽相对设置，所述台阶结构被配置为通过将所述工件部分的放置在所述支撑槽中以使所述工件与所述电极板间隔设置。

在某些实施方式中，所述第二支撑装置包括间隔设置的多个支撑柱，所述支撑柱贯穿所述电极板并被配置成支撑所述工件上升或下降。

在某些实施方式中，所述支撑臂包括设置在所述台阶结构上的减震件。

在某些实施方式中，所述第一支撑装置形成有贯穿所述支撑臂并连通所述支撑槽的通气孔。

在某些实施方式中，所述减震件和所述通气孔间隔设置。

在某些实施方式中，所述蚀刻设备包括等离子体发生器，所述等离子体发生器被配置成形成等离子体以使所述等离子体蚀刻所述工件的表面。

在某些实施方式中，所述蚀刻设备包括吹气装置，所述吹气装置被配置成将冷却气体吹向所述工件。

在某些实施方式中，所述蚀刻设备包括连接所述第一支撑装置的驱动装置，所述驱动装置被配置成驱动所述第一支撑装置相对于所述电极板上升或下降。

在某些实施方式中，所述第一支撑装置包括4个所述支撑臂，4个所述支撑臂的平面分布呈菱形。

本实用新型实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本实用新型实施方式的蚀刻设备的一个视角的平面结构示意图；

图2是本实用新型实施方式的支撑臂的一个视角的平面结构示意图；

图3是本实用新型实施方式的支撑臂的另一个视角的平面结构示意图；