[实用新型]一种IM膜

说明书

本实用新型提供了一种IM膜。该IM膜包括依次贴合的高折射层、基材层和防粘连层；所述防粘连层为表面具有轻微凹凸的三维网状结构；所述防粘连层的厚度为0.5‑3.0μm；所述基材层的厚度为25μm‑250μm；所述高折射层的涂布厚度为1.0‑3.0μm。本实用新型的IM膜中，其中的AB层具备更好的AB硬化层防粘连特性、胶带粘附性，水汽阻隔性好，不会有PET中小分子析出。

技术领域

本实用新型涉及一种IM膜，属于消影膜技术领域。

背景技术

IM膜(index matching)又叫消影膜，主要作为消影ITO膜的基材使用。通过在ITO膜和玻璃之间镀上一层IM膜，使ITO玻璃在刻蚀制作电容屏线路之后，在可见光波长500nm-650nm区间，ITO层蚀刻前后反射率△R％<0.5％，减少ITO区域和非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，线路的图案在常光下看不见图案线条，起到消除图案的效果的作用。消影ITO与普通ITO比较，其在具备同样导电性的同时还以下优点：(1)玻璃透过率增加，反射率减小，具有AR膜功能，在同等背光源的前提下，能通过减少环境光影响获得更好的视觉亮度；(2)减少ITO区域和刻蚀后非ITO区域的视觉反差，使得电容屏ITO刻蚀线条变淡，提高视觉效果。所以作为消影ITO膜基材的IM膜起着很重要的作用。

举个例子，公开号为CN103226212的专利公开了一种消影透明导电膜，里面公开了作为ITO的基材的IM的结构为两层结构，即PET+高折射率层；但此结构存在着三个问题：(1)IM湿法涂布收卷时很容易造成粘连的问题，从而影响到高折射层品质问题；(2)水汽阻隔性差，如果使用TAC膜或者COP膜等水汽阻隔性差的基材将无法使用于OLED屏(OLED对水汽敏感)；(3)在烧结ITO膜时，由于没有阻隔层会造成PET中小分子析出，从而造成污染；

现阶段采用上述结构的较少，一般会在PET基材的另一面涂布AB硬化膜层(anti-blocking，也称防粘连层，简称AB层)；由于AB硬化膜层一般添加SiO₂微粒子，所以容易造成AB层表面能比较低，现市场上主流以达因值(表面能)在32dyne/cm左右；而现阶段的OLED结构中，sensor的两面均需要贴合双面胶带，如果AB层表面能较低，在长时间的高温高湿条件下，将会造成很大的脱胶风险。

实用新型内容

鉴于上述现有技术存在的缺陷，本实用新型的目的是提供一种IM膜，能够使得其中的AB层具备更好的AB硬化层防粘连特性、胶带粘附性和水汽阻隔性。

本实用新型的目的通过以下技术方案得以实现：

一种IM膜，该IM膜包括依次贴合的高折射层、基材层和防粘连层；

所述防粘连层为表面具有轻微凹凸的三维网状结构；

所述防粘连层的厚度为0.5-3.0μm；

所述基材层的厚度为25μm-250μm；

所述高折射层的涂布厚度为1.0-3.0μm。

上述的IM膜中，优选的，所述防粘连层为由不同溶解度的两种聚氨酯丙烯酸酯类树脂混合物经UV固化后得到的表面具有轻微凹凸的三维网状结构。

上述的IM膜中，防粘连层(AB硬化层)采用混合物涂层，该涂层混合物含有两种成分，在将该涂层混合物涂布完成后会由于两种成分的SP(溶解度参数)不同发生相分离，形成表面具有轻微凹凸结构的三维网状树脂层，从而起到AB硬化层防粘连的作用。

上述的IM膜中，优选的，所述防粘连层的水汽透过率WVTR＜10g/(m²·day)；所述防粘连层的表面能大于50dyne/cm，铅笔硬度≥H。