[实用新型]线圈盘座、线圈盘以及电磁烹饪器具

说明书

本实用新型公开一种线圈盘座、线圈盘以及电磁烹饪器具，其中，所述线圈盘座的上盘面设有内环线槽及环设于所述内环线槽外侧的外环线槽，所述内环线槽具有第一深度，所述外环线槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述内环线槽内的绕线高度小于所述外环线槽内的绕线高度。根据上述结构设置，可以降低线圈盘中部内环区域的磁场强度，从而提高线圈盘产生磁场的均匀性，从而使线圈盘和电磁烹饪器具加热更加均匀。

技术领域

本实用新型涉及电磁加热技术领域，特别涉及一种线圈盘座、线圈盘以及电磁烹饪器具。

背景技术

线圈盘座是电磁烹饪器具中的重要组件之一，线圈盘座用于绕制线圈和安装磁条，以制作线圈盘，线圈盘所产生的高频交变电磁场在被加热体中产生涡流，以实现电磁加热。

现有的线圈盘多采用一环绕制，即在线圈盘座中部开设一环形槽，在所述环形槽底壁上凸设多个绕线隔筋，以形成多个绕线槽，然后在绕线槽内绕制线圈。但此类线圈盘的加热范围主要集中在环形槽处，且线圈盘内外加热温度相差较大，加热均匀性比较差。

现有的线圈盘还有的采用多环绕制，即在线圈盘座上开设多个同心环形槽，并在环形槽内设置绕线槽。但此类线圈盘未设置各环形槽内的线圈与加热部件距离，导致各环对加热部件影响不确定，最终都无法调整磁场强度均匀性，从而使得线圈盘加热均匀性差。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种线圈盘座，旨在解决现有线圈盘座制成的线圈盘加热均匀性差的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提供一种线圈盘座，用于电磁烹饪器具，所述线圈盘座的上盘面设有内环线槽及环设于所述内环线槽外侧的外环线槽，所述内环线槽具有第一深度，所述外环线槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述内环线槽内的绕线高度小于所述外环线槽内的绕线高度。

优选地，所述内环线槽的槽口与所述外环线槽的槽口位于同一高度。

优选地，所述第一深度d大于或等于1.7毫米。

优选地，所述第二深度D小于或等于15毫米。

优选地，所述内环线槽底壁的外表面高于所述外环线槽底壁的外表面。

优选地，所述内环线槽底壁的外表面与所述外环线槽底壁的外表面之间的高度差大于或等于1.5毫米。

优选地，所述内环线槽底壁的外表面与所述外环线槽底壁的外表面之间的高度差小于或等于13毫米。

优选地，所述内环线槽与所述外环线槽间隔设置。

本实用新型还提供一种线圈盘，用于电磁烹饪器具，所述线圈盘包括线圈盘座、以及分别绕制在所述内环线槽和外环线槽内的内环线圈和外环线圈，所述外环线圈的绕线高度大与所述内环线圈的绕线高度。

所述线圈盘座的上盘面设有内环线槽及环设于所述内环线槽外侧的外环线槽，所述内环线槽具有第一深度，所述外环线槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述内环线槽内的绕线高度小于所述外环线槽内的绕线高度。

本实用新型还提供一种电磁烹饪器具，包括线圈盘。所述线圈盘包括线圈盘座。

所述线圈盘座的上盘面设有内环线槽及环设于所述内环线槽外侧的外环线槽，所述内环线槽具有第一深度，所述外环线槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述内环线槽内的绕线高度小于所述外环线槽内的绕线高度。