[实用新型]硅片清洗系统

说明书

本实用新型适用于硅片清洗技术领域，尤其涉及一种硅片清洗系统。包括：硅片清洗机、硅片脱胶机、蓄水池、水泵和用于污水处理的沉淀池，硅片清洗机的出水口通过第一管路连接蓄水池的进水口，蓄水池的出水口通过第二管路连接水泵的进水口，水泵的出水口通过第三管路连接硅片脱胶机的进水口，硅片脱胶机的出水口通过第四管路连接沉淀池的进水口。采用上述方案后，能将硅片清洗机中排掉的水存储到蓄水池中供硅片脱胶机再利用，同时还能降硅片脱胶机排掉的水进行沉淀再处理形成新水，循环利用水资源，能减少水源的浪费，同时减少工厂的开支。

技术领域

本实用新型属于硅片清洗技术领域，尤其涉及一种硅片清洗系统。

背景技术

硅片清洗主要通过两种设备实现，硅片脱胶机和硅片清洗机，脱胶机完成硅片切割后的预冲洗和脱胶工作，硅片清洗机通过纯水超声和药剂清洗将每片硅片一一清洗干净。

但是，硅片清洗机需要不断注入新水进行漂洗，此新水往往都是排掉不再使用的，但硅片在脱胶环节需要使用大量的自来水，将硅片表面附着的切割液进行冲洗干净，用水量大，用水浪费严重。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种硅片清洗系统，以解决现有技术中用水量大，用水浪费严重的问题。

本实用新型实施例提供了一种硅片清洗系统，包括：硅片清洗机、硅片脱胶机、蓄水池、水泵和用于污水处理的沉淀池，所述硅片清洗机的出水口通过第一管路连接所述蓄水池的进水口，所述蓄水池的出水口通过第二管路连接所述水泵的进水口，所述水泵的出水口通过第三管路连接所述硅片脱胶机的进水口，所述硅片脱胶机的出水口通过第四管路连接所述沉淀池的进水口。

作为进一步的技术方案，所述系统还包括水过滤器，所述水过滤器设置在所述水泵的进水口处。

作为进一步的技术方案，所述第一管路、所述第二管路、所述第三管路和所述第四管路均为PPR管路。

作为进一步的技术方案，所述沉淀池的进水口处设有用于盛放污水处理药剂的药盒。

作为进一步的技术方案，所述药盒上还包括用于调节污水处理药剂剂量的调节旋钮。

作为进一步的技术方案，所述系统还包括设置在所述蓄水池预设位置处的水位监测单元、控制单元和报警单元，所述水位监测单元连接所述控制单元，所述控制单元连接所述报警单元。

作为进一步的技术方案，所述报警单元为语音报警器、蜂鸣报警器、灯光报警器和振动报警器中的任意一种或多种。

作为进一步的技术方案，所述系统还包括设置在所述蓄水池内部的温度监测单元和和设置在所述蓄水池外侧的加热单元，所述温度监测单元连接所述控制单元，所述控制单元连接所述加热单元。

作为进一步的技术方案，所述控制单元为PLC控制器。

作为进一步的技术方案，所述加热单元为加热片。

本实用新型实施例与现有技术相比存在的有益效果是：采用上述方案后，能将硅片清洗机中排掉的水存储到蓄水池中供硅片脱胶机再利用，同时还能降硅片脱胶机排掉的水进行沉淀再处理形成新水，循环利用水资源，能减少水源的浪费，同时减少工厂的开支。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的硅片清洗系统的结构示意图；

图2是本实用新型另一实施例提供的硅片清洗系统的结构示意图；