[实用新型]匀强磁场对单摆运动影响的实验装置有效

专利信息
申请号: 201721473579.9 申请日: 2017-11-07
公开(公告)号: CN208061512U 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 孔兴隆;王健浩 申请(专利权)人: 温州市龙湾区教师发展中心
主分类号: G09B23/18 分类号: G09B23/18
代理公司: 温州名创知识产权代理有限公司 33258 代理人: 陈加利
地址: 325000 浙江省温*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 透明固定座 方块磁铁 绝缘线 条形槽 球体 本实用新型 单摆运动 实验装置 匀强磁场 挂杆 空腔 摆动方向 间隔设置 空腔内部 连通空腔 两侧位置 速度实现 悬浮设置 新机械 摆动 演示 贯穿 学生
【权利要求书】:

1.一种匀强磁场对单摆运动影响的实验装置,其特征在于:包括透明固定座(1),所述透明固定座(1)内设有空腔(2),位于所述透明固定座(1)的一侧设有挂杆(3),所述挂杆(3)上连接有位于透明固定座(1)正上方的绝缘线(4),所述透明固定座(1)的顶部设有连通空腔(2)且供绝缘线(4)穿设并使绝缘线(4)能实现往复摆动的条形槽(5),所述绝缘线(4)上位于空腔(2)内部的位置设有悬浮设置且带电荷的球体(6),所述条形槽(5)与空腔(2)均贯穿透明固定座(1)朝向绝缘线(4)摆动方向的一侧壁,所述透明固定座(1)的顶部且位于条形槽(5)的两侧位置均设有第一方块磁铁(7),所述第一方块磁铁(7)沿条形槽(5)的长度方向延伸设置,所述空腔(2)底部且位于第一方块磁铁(7)的正下方设有第二方块磁铁(8),所述第二方块磁铁(8)与球体(6)之间间隔设置且沿条形槽(5)的长度方向延伸设置,位于所述透明固定座(1)的下方设有底座(9),所述底座(9)与透明固定座(1)之间沿绝缘线(4)的摆动方向往复滑移设置。

2.根据权利要求1所述的匀强磁场对单摆运动影响的实验装置,其特征在于:包括设置于底座(9)且供透明固定座(1)滑移的滑道(10),所述滑道(10)与透明固定座(1)之间设有抽屉滑轨(11)。

3.根据权利要求1所述的匀强磁场对单摆运动影响的实验装置,其特征在于:所述透明固定座(1)的顶部设有限制第一方块磁铁(7)沿垂直于条形槽(5)的长度方向实现移动的延边(12)。

4.根据权利要求3所述的匀强磁场对单摆运动影响的实验装置,其特征在于:所述透明固定座(1)的顶部朝向绝缘线(4)摆动方向的两侧壁均设有挡边(13),所述挡边(13)与第一方块磁铁(7)之间填充有限制第一方块磁铁(7)沿绝缘线(4)的摆动方向实现移动的固定块(14)。

5.根据权利要求1所述的匀强磁场对单摆运动影响的实验装置,其特征在于:所述透明固定座(1)垂直于绝缘线(4)摆动方向的外侧壁设有用于将第二方块磁铁(8)放置进空腔(2)的通道(15)。

6.根据权利要求1所述的匀强磁场对单摆运动影响的实验装置,其特征在于:所述第二方块磁铁(8)抵触空腔(2)内壁用于限制第二方块磁铁(8)沿垂直于绝缘线(4)的摆动方向实现移动。

7.根据权利要求1所述的匀强磁场对单摆运动影响的实验装置,其特征在于:所述挂杆(3)设置于底座(9)。

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